[发明专利]氧化锌锡陶瓷靶的制备工艺及使用该靶材制备氧化锌锡镀膜的方法

权利要求书

1.一种氧化锌锡陶瓷靶，其特征在于，所述氧化锌锡陶瓷靶包括纯度为99.99%的氧化锌粉体和纯度为99.99%的氧化锡粉体混合而成，其中，所述氧化锌粉体和所述氧化锡粉体的质量百分比为6:4～7:3的任一配比。

2.一种如权利要求1所述的氧化锌锡陶瓷靶的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1：分别量取纯度为99.99%的氧化锌粉体和纯度为99.99%的氧化锡粉体，并以氧化锌粉体和氧化锡粉体的质量百分比为6:4～7:3的任一配比进行混合，形成混合粉体；

步骤S2：在所述混合粉体中添加去离子水，并添加有机助剂，形成第一混合浆料，球磨12～24h；

步骤S3：在所述第一混合浆料中进一步添加有机粘结剂，形成第二混合浆料，并持续研磨2～3h；

步骤S4：将所述第二混合浆料进行喷雾干燥造粒处理，使得所述干燥后粉体的粒径为10～100μm；

步骤S5：将所述干燥后的粉体填充于靶材模具中，并在1～3T/cm-2的压力下加工成型，获得相对密度大于50%的胚体；

步骤S6：将所述胚体在400～600℃净化空气炉中保温2～5h，以脱除有机添加剂；

步骤S7：对脱除有机添加剂的所述胚体升温至1250～1600℃，烧结形成氧化锌锡陶瓷靶。

3.如权利要求2所述的氧化锌锡陶瓷靶的制备工艺，其特征在于，所述有机助剂为0.2～0.6 wt%的三乙醇胺。

4.如权利要求2所述的氧化锌锡陶瓷靶的制备工艺，其特征在于，所述有机粘结剂为0.5～2 wt%的聚乙烯醇。

5.使用如权利要求1-4之一所述的氧化锌锡陶瓷靶制备氧化锌锡膜的方法，其特征在于，使用氧化锌锡陶瓷靶在纯氩气氛围下，进行磁控溅射。

6.使用如权利要求1-4之一所述的氧化锌锡陶瓷靶制备氧化锌锡膜的方法，其特征在于，使用氧化锌锡陶瓷靶在通入氩气和氧气流量为0～150sccm的任一取值的氛围下，进行磁控溅射。

7.使用如权利要求1-6之一所述的氧化锌锡陶瓷靶制备氧化锌锡膜的方法制备的镀膜，其特征在于，所述氧化锌锡镀膜应用于低辐射镀膜玻璃之中。