[发明专利]显示基板及其制造方法和显示装置在审
| 申请号： | 201410363864.X | 申请日： | 2014-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN104166269A | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 汪栋 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板和形成于所述衬底基板上方的黑矩阵和彩色矩阵图形，所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形之间形成有第一覆盖层，所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形的上方形成有第二覆盖层。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一覆盖层为平坦层，所述第二覆盖层为平坦层。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述黑矩阵位于所述衬底基板之上，所述第一覆盖层位于所述黑矩阵之上，所述彩色矩阵图形位于所述第一覆盖层之上，所述第二覆盖层位于所述彩色矩阵图形之上；或者
所述彩色矩阵图形位于所述衬底基板之上，所述第一覆盖层位于所述彩色矩阵图形之上，所述黑矩阵位于所述第一覆盖层之上，所述第二覆盖层位于所述黑矩阵之上。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，若所述第一覆盖层位于所述黑矩阵之上，所述第一覆盖层的厚度为1.0μm至2.0μm，所述黑矩阵的厚度为0.9μm至2.0μm；
若所述第一覆盖层位于所述彩色矩阵图形之上，所述第一覆盖层的厚度为1.0μm至3.0μm，所述彩色矩阵图形的厚度为1.0μm至3.0μm。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括公共电极层，所述公共电极层形成于所述第二覆盖层之上。
6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括配向层，所述配向层形成于所述第二覆盖层的上方。
7.一种显示装置，其特征在于，包括相对设置的显示基板和对置基板，所述显示基板采用上述权利要求1至6任一所述的显示基板。
8.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成黑矩阵、彩色矩阵图形和第一覆盖层，所述第一覆盖层位于所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形之间；
在所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形的上方形成第二覆盖层。
9.根据权利要求8所述的显示基板的制造方法，其特征在于，
所述在衬底基板上形成黑矩阵、彩色矩阵图形和第一覆盖层包括：
在衬底基板上形成所述黑矩阵；
在所述黑矩阵之上形成所述第一覆盖层；
在所述第一覆盖层之上形成彩色矩阵图形；
所述在所述黑矩阵和所述彩色矩阵图形的上方形成第二覆盖层包括：
在所述彩色矩阵图形之上形成所述第二覆盖层。
10.根据权利要求9所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在所述黑矩阵之上形成所述第一覆盖层包括：
通过整面涂覆工艺在所述黑矩阵之上形成所述第一覆盖层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410363864.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光配向膜及其制备方法、液晶显示基板和装置
- 下一篇：一种镜面显示装置
