[发明专利]发光装置及投影系统有效

专利信息
申请号: 201410364651.9 申请日: 2014-07-28
公开(公告)号: CN105319819B 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 胡飞;杨佳翼 申请(专利权)人: 深圳光峰科技股份有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 激发光 合光 分光 投影系统 出射光 波长转换装置 波长转换层 发光装置 反射 激光 减小 光源 合成 发射 传播 吸收
【权利要求书】:

1.一种发光装置,其特征在于,包括:

发射激发光的一光源,该一光源发射一连续波段的激发光;

位于所述激发光的出射光路上的分光合光片,所述分光合光片具有将所述激发光分成沿不同路径传播的第一束和第二束激发光的分光部位;

位于所述第一束激发光的出射光路上,且具有第一波长转换层的第一波长转换装置,所述第一波长转换层吸收所述第一束激发光后产生第一受激光,并将所述第一受激光反射回所述分光合光片;

位于所述第二束激发光的出射光路上的第二波长转换装置,所述第二波长转换装置具反射区以及第二波长转换层,所述第二束激发光在所述反射区发生反射并返回所述分光合光片,所述第二波长转换层吸收所述第二束激发光后产生第二受激光,并将所述第二受激光反射回所述分光合光片;

其中,所述分光部位对所述第一受激光反射,对所述第二受激光透射,或者,所述分光部位对所述第一受激光透射,对第二受激光反射,所述分光合光片还具有位于所述分光部位四周的合光部位,所述合光部位将反射回所述分光合光片的所述第一受激光、第二受激光和第二束激发光合成一束光出射。

2.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述分光部位位于所述分光合光片的中心区域,且所述分光部位为半透半反膜片。

3.根据权利要求2所述的发光装置,其特征在于,当所述第二波长转换装置具有所述第二波长转换层时,所述合光部位为将反射回所述分光合光片的所述第一受激光、第二受激光和第二束激发光合成一束光的合光部位。

4.根据权利要求3所述的发光装置,其特征在于,所述合光部位为对所述第一受激光反射、对所述第二受激光和第二束激发光透射的滤光片,或者所述合光部位为对所述第一受激光透射,对所述第二受激光和第二束激发光反射的滤光片。

5.如权利要求4所述的发光装置,其特征在于,所述分光部位为对所述激发光部分透射、部分反射,对所述第一受激光反射,对所述第二受激光透射的滤光片,或者所述分光部位为对所述激发光部分透射、部分反射,对所述第一受激光透射,对所述第二受激光反射的滤光片。

6.根据权利要求4或5所述的发光装置,其特征在于,所述第一波长转换层或第二波长转换层为具有红光荧光粉的波长转换层,所述红光荧光粉吸收激发光后产生的受激光包含近红外光。

7.根据权利要求6所述的发光装置,其特征在于,当所述第二波长转换层为具有红光荧光粉的波长转换层,且所述红光荧光粉产生的受激光包含近红外光时,所述第一波长转换层为具有黄光荧光粉的波长转换层。

8.根据权利要求7所述的发光装置,其特征在于,当所述第一束激发光的传播路径与所述激发光的传播路径相同时,所述合光部位为透射波长小于480nm以及大于650nm的光线、反射波长位于480nm~650nm之间的光线的滤光片,所述分光部位还具有反射波长位于480nm~650nm之间的光线、透射波长大于650nm的光线、对波长小于480nm的光线部分透射、部分反射的滤光片。

9.根据权利要求7所述的发光装置,其特征在于,当所述第二束激发光的传播路径与所述激发光的传播路径相同时,所述合光部位为反射波长小于480nm以及大于650nm的光线、透射波长位于480nm~650nm之间的光线的滤光片,所述分光部位还具有透射波长位于480nm~650nm之间的光线、反射波长大于650nm的光线、对波长小于480nm的光线部分透射、部分反射的滤光片。

10.根据权利要求6所述的发光装置,其特征在于,当所述第一波长转换层为具有红光荧光粉的波长转换层,且所述红光荧光粉产生的受激光包含近红外光时,所述第二波长转换层为具有黄光荧光粉的波长转换层。

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