[发明专利]一种适应多种工艺类型硅片的预对准装置

权利要求书

1.一种适应多种工艺类型硅片的预对准装置，其特征在于，包括吸盘底座、陶瓷吸盘、半月吸盘、线阵CCD、镜片、反射光机系统以及对射光机系统，其中，

所述陶瓷吸盘与半月吸盘均安装于所述吸盘底座上，所述陶瓷吸盘能够沿Z向做升降运动，并能够沿中心轴旋转；所述半月吸盘能够相对于所述陶瓷吸盘在水平方向上运动；

所述镜片对所述反射光机系统、所述对射光机系统发出的光束分别进行反射、透射，透过所述镜片，在所述反射光机系统与所述对射光机系统之间切换，以适应不同工艺类型的硅片预对准检测；

所述反射光机系统利用反射式预对准方式检测硅片边缘的信息，并经由所述线阵CCD收集所述镜片反射的所述硅片边缘的信息；

所述对射光机系统利用透射式预对准方式检测硅片边缘的信息，并经由所述线阵CCD收集所述镜片透射的所述硅片边缘的信息。

2.如权利要求1所述的适应多种工艺类型硅片的预对准装置，其特征在于，所述反射光机系统包括反射光源以及反射镜头，所述反射光源和线阵CCD位于所述硅片的同一侧，所述硅片放置于所述陶瓷吸盘上，所述反射光源发出的光束经过所述反射镜头入射至所述硅片表面，经所述镜片的反射后入射至所述线阵CCD。

3.如权利要求1所述的适应多种工艺类型硅片的预对准装置，其特征在于，所述对射光机系统包括对射光源和对射镜头，所述对射光源与所述线阵CCD分别位于所述硅片的两侧，所述对射光源发出的光束经所述对射镜头入射至所述硅片的表面，经所述镜片的透射后入射至所述线阵CCD。

4.如权利要求1所述的适应多种工艺类型硅片的预对准装置，其特征在于，所述反射光机系统发出的光束为红光，所述对射光机系统发出的光束为绿光，所述镜片采用反红透绿镜片。

5.如权利要求1所述的适应多种工艺类型硅片的预对准装置，其特征在于，所述陶瓷吸盘和半月吸盘的吸附区的外缘处设有柔性材料。

6.如权利要求5所述的适应多种工艺类型硅片的预对准装置，其特征在于，所述柔性材料为橡胶。

7.如权利要求1所述的适应多种工艺类型硅片的预对准装置，其特征在于，所述陶瓷吸盘与半月吸盘均包括若干吸附孔。