[发明专利]三维成像系统、其部件以及三维成像的方法无效

专利信息
申请号: 201410368505.3 申请日: 2012-09-25
公开(公告)号: CN104191614A 公开(公告)日: 2014-12-10
发明(设计)人: C.R.斯佩里;D.F.麦克纳马拉;M.A.约翰逊;R.O.格雷戈里二世;C.J.维林 申请(专利权)人: 3D系统公司
主分类号: B29C67/00 分类号: B29C67/00;G03F7/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 肖日松;谭祐祥
地址: 美国南卡*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 三维 成像 系统 部件 以及 方法
【权利要求书】:

1. 一种用于从实体成像材料制备三维物体的实体成像设备,所述实体成像设备包括:

储盒,其包括实体成像材料的供应源;

一次性托盘,其保持从所述储盒分配的实体成像材料;以及

成像器,其将光化辐射投射到所述一次性托盘中的实体成像材料的层上,以选择性地固化实体成像材料的所述层,

其中,所述一次性托盘限定侧壁、底部表面和对辐射透明的膜,所述对辐射透明的膜粘附到所述侧壁和所述底部表面中的至少一个,使得当所述托盘定位在所述实体成像设备中时,所述光化辐射被投射通过所述对辐射透明的膜以选择性地固化实体成像材料的所述层。

2. 根据权利要求1所述的实体成像设备,其特征在于,还包括用于接纳所述托盘的框架。

3. 根据权利要求2所述的实体成像设备,其特征在于,所述框架还包括带有对辐射透明的支撑表面的凹部,所述托盘被接纳在所述支撑表面上。

4. 根据权利要求3所述的实体成像设备,其特征在于,还包括基本上围绕所述对辐射透明的支撑表面的衬垫,并且包括在所述凹部中的空气通道,所述空气通道适于在所述对辐射透明的膜与所述对辐射透明的支撑表面之间选择性地提供正空气压力和负空气压力。

5. 根据权利要求2所述的实体成像设备,其特征在于,还包括导轨,其能够相对于所述框架升高以允许所述托盘的加载和卸载。

6. 根据权利要求1所述的实体成像设备,其特征在于,还包括传感器,其将光信号传输通过所述托盘的所述对辐射透明的膜,以用于测量所述托盘中的实体成像材料的量。

7. 一种将新托盘和新涂布器刮条安装到实体成像设备中的方法,所述方法包括:

打开所述实体成像设备的外门,以触及用过的托盘和用过的涂布器刮条;

从所述实体成像装置移除所述用过的托盘和用过的涂布器刮条;

将所述新托盘和新涂布器刮条大体上定位在所述用过的托盘和用过的涂布器刮条的先前位置中;以及

关闭所述实体成像设备的所述外门;

其中,在打开所述外门之前,所述实体成像设备的成像器将光化辐射投射到所述托盘上,以固化在所述用过的托盘内的基本上所有未固化的实体成像材料。

8. 根据权利要求7所述的方法,其特征在于,还包括:在移除所述用过的托盘之前,升高所述实体成像设备的导轨,以使所述用过的托盘离开所述实体成像设备的框架;以及在定位所述新托盘之后,降低所述导轨,以将所述新托盘保持在所述框架中。

9. 根据权利要求8所述的方法,其特征在于,升高所述导轨包括也升高所述实体成像设备的梭子和储盒。

10. 根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述用过的涂布器刮条连接到所述梭子。

11. 根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述导轨连接到提升辅助装置以使得所述导轨能够停留在升高位置,直到所述导轨被降低为止。

12. 根据权利要求7所述的方法,其特征在于,定位所述新托盘包括将所述新托盘置于衬垫上,该衬垫围绕所述实体成像设备的对辐射透明的支撑表面。

13. 一种用于在实体成像设备中使用的一次性托盘,所述实体成像设备通过使实体成像材料暴露于光化辐射而制备三维物体,所述一次性托盘包括:

侧壁,其限定足以保持一定量的实体成像材料的高度;

连接到所述侧壁的底部表面,其中所述底部表面限定开口;

对辐射透明的膜,其粘附到所述侧壁和所述底部表面中的至少一个以覆盖所述开口,使得当所述托盘定位在所述实体成像设备中时,所述光化辐射被投射通过所述对辐射透明的膜以选择性地固化所述托盘中一定量的实体成像材料;以及

过滤器。

14. 根据权利要求13所述的一次性托盘,其特征在于,所述侧壁和底部表面包括塑性材料,并且所述对辐射透明的膜包括氟化乙丙烯膜和聚四氟乙烯膜中的至少一种。

15. 根据权利要求13所述的一次性托盘,其特征在于,所述底部表面和所述对辐射透明的膜中的至少一个在它们被粘附的区域中被纹理化,以便在所述底部表面与所述对辐射透明的膜之间提供更好的粘附。

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