[发明专利]一种平面光波导的制作方法在审
| 申请号： | 201410369687.6 | 申请日： | 2014-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN104101950A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 冯春蓉;向舟翊;李朝阳 | 申请（专利权）人： | 四川飞阳科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/136 | 分类号： | G02B6/136 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 610209 四川省成都市双*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 平面 波导 制作方法 | ||
1.一种平面光波导的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底表面形成芯层；
在所述芯层表面形成金属层；
在所述金属层表面形成光刻胶层，并图案化所述光刻胶层；
将所述衬底水平放置在刻蚀槽内，以图案化后的光刻胶层为掩膜对所述金属层进行刻蚀，其中，所述衬底设置有所述金属层的表面朝上放置，所述金属层浸没在所述刻蚀槽内的金属刻蚀试剂内；
判断对所述金属层的刻蚀是否完成，当所述刻蚀完成后，去除图案化后的光刻胶层，以刻蚀后的金属层为掩膜对所述芯层进行刻蚀，图案化所述芯层，形成预设结构的波导芯层；
去除刻蚀后的金属层，在所述波导芯层表面形成保护层。
2.根据权利要求1所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述金属刻蚀试剂液的面高于所述金属层的上表面，且低于所述光刻胶层的上表面。
3.根据权利要求2所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述判断的方式为：
根据所述金属刻蚀试剂对所述金属层的刻蚀速度与所述金属层的厚度计算完成时间，当达到所述完成时间时，可判断所述刻蚀完成。
4.根据权利要求2所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述判断的方式为：
观察浸没在所述金属刻蚀试剂内的未被图案化后的光刻胶层遮挡的金属层的颜色由黑变为银白色时，可判断所述刻蚀完成。
5.根据权利要求1所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述衬底为硅晶圆。
6.根据权利要求5所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述衬底还包括：设置在所述硅晶圆表面的下包层，所述下包层表面用于形成所述波导芯层。
7.根据权利要求6所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述下包层为二氧化硅层。
8.根据权利要求1所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述衬底为石英片。
9.根据权利要求1-8任一项所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述金属层为金属铬层。
10.根据权利要求1-8任一项所述的平面光波导的制作方法，其特征在于，所述金属刻蚀试剂为硝酸与硝酸铈铵的混合溶液。
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