[发明专利]真空吸盘

权利要求书

1.一种真空吸盘，其适用于在其吸附表面吸附硅片，所述真空吸盘包括具有所述吸附表面的吸盘本体和位于吸盘本体上的气体通道，其特征在于，所述气体通道包括位于所述吸附表面上的至少两组同心圆槽和位于所述吸盘本体内部的至少两条径向气道，其中，每组同心圆槽具有至少两条同心圆槽，每两组相邻的同心圆槽之间设有隔离区，每组同心圆槽之间在对应所述径向气道的位置设有至少一个径向沟槽以使该组的同心圆槽相互连通，在所述径向气道和所述径向沟槽之间至少设有一个垂直气孔从而使所述径向气道与所述同心圆槽相连通，所述至少两条径向气道在内端相互连通，在外端一个连接真空接头另一个适于接收与所吸附的硅片规格相对应规格的密封塞，以通过控制对径向在外的所述垂直气孔的堵塞来控制径向在外的至少一组同心圆槽与所述真空接头的连通从而实现对不同硅片的吸附。

2.如权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述垂直气孔位于所述圆槽下方。

3.如权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述两条径向气道沿直线分布。

4.如权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述两条径向气道彼此间具有夹角。

5.如权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述每组同心圆槽包括三条同心圆槽。

6.如权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述同心圆槽和/或所述径向沟槽具有0.3mm的宽度。

7.如权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述垂直气孔是直径为0.5mm的圆柱孔。