[发明专利]一种掩膜板检测装置和方法

权利要求书

1.一种掩膜板检测装置，其特征在于，所述装置包括：

设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏电阻的作用区域对应；

所述检测板用于当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上时，检测所述多个光敏电阻的电阻值，并判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。

2.如权利要求1所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述光敏电阻的两侧设置有触头，且所述光敏电阻通过所述触头设置在所述检测板表面。

3.如权利要求1所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。

4.如权利要求1所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述掩膜板上透光区域的面积不同，但具有相同分布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值，其中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏电阻对应的透光区域的面积相同。

5.如权利要求1-4任一项所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述检测板的面积不小于所述掩膜板的面积。

6.如权利要求5所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述平行光的照射面积不小于所述掩膜板的面积。

7.如权利要求5所述的掩膜板检测装置，其特征在于，当所述平行光的照射面积小于所述掩膜板的面积时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。

8.如权利要求1-4任一项所述的掩膜板检测装置，其特征在于，所述装置还包括：

绝缘板，设置在所述多个光敏电阻与所述检测板之间。

9.一种掩膜板检测方法，其特征在于，所述方法包括：

在检测板表面设置多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏电阻的作用区域对应；

当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上时，所述检测板检测所述多个光敏电阻的电阻值；

所述检测板判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，获得判断结果；

当所述判断结果指示所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，所述检测板反馈与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。

10.如权利要求9所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述检测板检测所述多个光敏电阻的电阻值具体为：

所述检测板测量所述光敏电阻两端的电压值；

所述检测板测量流过所述光敏电阻的电流值；

所述检测板根据所述电压值和所述电流值计算所述光敏电阻的电阻值。

11.如权利要求9所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。

12.如权利要求9所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述掩膜板上透光区域的面积不同，但具有相同分布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值，其中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏电阻对应的透光区域的面积相同。

13.如权利要求9-12任一项所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述检测板的面积不小于所述掩膜板的面积。

14.如权利要求13所述的掩膜板检测方法，其特征在于，所述平行光的照射面积不小于所述掩膜板的面积。

15.如权利要求13所述的掩膜板检测方法，其特征在于，当所述平行光的照射面积小于所述掩膜板的面积时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。