[发明专利]负型感光性树脂组合物及图案、晶粒、装置的制法

说明书

本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其包括碱可溶性树脂(A)、光致产酸剂(B)、碱性化合物(C)、交联剂(D)以及溶剂(E)。碱可溶性树脂(A)包括丙烯酸酯系树脂(A‑1)与酚醛清漆树脂(A‑2)。丙烯酸酯系树脂(A‑1)是由聚合用单体聚合而得，其中所述聚合用单体包括不饱和羧酸或不饱和羧酸酐的单体(a‑1‑1)与单体(a‑1‑2)，并且单体(a‑1‑2)包括具有三环癸烷或双环戊二烯结构的化合物(a‑1‑2‑1)、式(1)所示的化合物(a‑1‑2‑2)或上述两者的组合。酚醛清漆树脂(A‑2)是由醛类化合物与芳香族羟基化合物聚合而得，其中芳香族羟基化合物包括二甲酚类化合物。

技术领域

本发明是有关于一种感光性树脂组合物，且特别是有关于一种负型感光性树脂组合物。

背景技术

近年来，随着半导体工业、液晶显示器(liquid crystal display,LCD)以及有机电激发光显示装置(organic electro-luminescence display device,OELD)的发展，伴随而来对于尺寸缩小化的需求，使得微影(photolithography)工艺成为非常重要的议题。在微影(photolithography)工艺中，必须将所需的光阻图案(pattern)微细化(finer)，以达到尺寸缩小化的目的。

一般而言，在半导体工艺中，金属图案(metallic pattern)可以剥离法(lift-offmethod)来制作。所述剥离法的步骤如下：首先，在基板上形成光阻图案。接着，在上面形成有光阻图案的基板上蒸镀金属层。最后，剥离光阻图案与形成在光阻图案上的金属层来形成金属图案。在剥离法中，由于光阻图案的剖面为逆锥状(reversed tapered shape)，因此覆盖在基板上的金属层与覆盖在光阻图案上的金属层不连续，而易于移除。值得一提的是，上述光阻图案存在有耐热性不佳、吸水性高等问题。

另一方面，在有机电激发光显示装置中，通常是以光阻图案作为在第一电极层上的隔离壁(rib)，并且将有机电致发光媒体(organic electro-luminescence matrix)涂布经由隔离壁而暴露出的第一电极层上来形成画素层。接着，在隔离壁与画素层的整体表面上蒸镀金属层来形成位于画素层上的第二电极层。值得一提的是，由于有机发光元件容易受到水份、溶剂等成分破坏，因此希望以吸水性低的材料作为隔离壁。又，为了除去隔离壁中残留的水份与溶剂，通常在高温下对隔离壁与其他有机发光元件进行脱气处理(deaeration treatment)。然而，隔离壁却因此变形，而不利于使用。

日本特许3320397号揭示一种逆锥状光阻图案的形成方法，其是使用双酚类化合物来作为负型感光性树脂组合物，并且以所述负型感光性树脂组合物来形成光阻图案。如此一来，便可以蒸镀方式于光阻图案上形成金属图案，并且所述光阻图案亦可形成为耐热性佳、吸水性低的隔离壁。然而，使用所述负型感光性树脂组合物来形成的光阻图案却存在与基板之间剥除性不佳以及不耐蒸镀工艺的问题。

于是，亟需发展一种负型感光性树脂组合物，其适于形成一种与基板之间的剥除性佳，且耐蒸镀工艺的光阻图案。

发明内容

本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其用于形成一种与基板之间的剥除性佳，且耐蒸镀工艺的光阻图案。