[发明专利]涂布装置及涂布方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种通过使基板等涂布对象物与喷嘴相对地移动而将涂布液涂布于涂布对象物的涂布装置及涂布方法。

背景技术

例如，在将涂布液涂布于太阳电池用面板基板、有机电致发光(Electro Luminescence，EL)显示装置用玻璃基板、液晶显示装置用玻璃基板、等离子体显示面板(Plasma Display Panel，PDP)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等各种基板的表面时，使用具备狭缝喷嘴的涂布装置，所述狭缝喷嘴通过以与基板的表面接近的状态而在水平方向上移动，来将涂布液涂布于该基板的表面。

此种涂布装置中，采用如下构成：利用管泵(tube bump)或波纹管泵(bellows bump)等根据体积变化来输送涂布液的泵，将贮存在捕集槽(trap tank)等贮存槽中的涂布液供给到狭缝喷嘴(参照专利文献1)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2008-182268号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

此种涂布装置中，以前使用具有数cP(厘泊(centipoise))至数十cP程度的粘度的涂布液。然而，近年来，也使用具有数千cP程度的粘度的涂布液。在使用此种涂布液的情况下，当使用管泵或波纹管泵等根据体积变化输送涂布液的泵来作为泵时，会产生无法根据涂布液的粘度而执行适当的送液的问题。此种现象不仅在涂布液的粘度高的情况下发生，在涂布液的供给系统中产生阻力的情况下，例如对涂布液进行过滤的过滤器中发生堵塞时等也同样会发生。

为了解决所述问题，而考虑通过将涂布液以经过了加压的状态而供给到泵中，从而即便在涂布液的粘度高的情况下，也可适当地对狭缝喷嘴供给涂布液。

图9是表示对狭缝喷嘴13供给经加压的涂布液的实施方式的涂布液的供给系统的概要图。

图9所示的涂布液的供给系统包括：贮存涂布液的贮存槽61，以及将该贮存槽61内的涂布液朝向狭缝喷嘴13输送的泵44。在泵44与贮存槽61之间配设着过滤器63与开闭阀53。而且，泵44经由一对开闭阀54、开闭阀55而与狭缝喷嘴13的两端部连接。此外，狭缝喷嘴13上连接着管路中具备开闭阀56的排气用的配管。

贮存涂布液的贮存槽61配设于腔室62内。该腔室62经由调节器49与开闭阀51而与压缩空气的供给部连接。因此，如果从压缩空气的供给部经由调节器49及开闭阀51来将压缩空气供给到腔室62内，则贮存槽61内的涂布液被压缩。而且，在开闭阀53打开的情况下，涂布液经由过滤器63输送到泵44。这样在供给到泵44的涂布液受到加压的情况下，当使用粘度高的涂布液时，即便在使用管泵或波纹管泵等根据体积变化输送涂布液的泵来作为泵44的情况下，也可适当地将涂布液供给到狭缝喷嘴13。

图10是表示利用图9所示的供给系统供给涂布液时的涂布液的压力的变化的曲线图。

图10所示的曲线图中，纵轴表示压力，横轴表示时间。而且，该曲线图中，实线表示从贮存槽61输送到泵44的涂布液的压力。此外，该曲线图中，符号A表示泵44可适当运行的最大压力，符号B表示涂布液的供给源的压力，即，经调节器41调整的涂布液的压力，符号C表示泵44可适当运行的最小压力。

在开始进行涂布液的涂布之前，开闭阀53闭合，泵44的入口处的涂布液的压力为固定。该状态下，在开始进行涂布液的涂布时，首先将开闭阀53打开。图10中的符号a表示将开闭阀53打开的时间点。根据伴随该开闭阀53的打开的体积变化，泵44的入口处的压力暂时降低后，会再次上升。而且，随时间的推移，泵44的入口处的压力逐渐上升，而成为与涂布液的供给压力B一致的压力。该状态下，开始进行泵44的抽吸动作，将涂布液供给到泵44。图10中的符号b表示开始进行泵44的抽吸动作的时间点。

如果泵44开始抽吸动作，而将涂布液供给到泵44，则泵44的入口处的涂布液的压力急剧降低。而且，根据涂布状况，如图10所示，有时泵44的入口处的压力比泵44可适当运行的最小压力C小。在发生了此种现象的情况下，因泵44无法适当地执行送液，所以需要应对狭缝喷嘴13的涂布速度降低等，从而无法执行涂布液的适当的涂布动作。

在结束涂布液的涂布时，停止泵44的送液，并将开闭阀54、开闭阀55闭合。图10中的符号c表示泵44的抽吸动作停止的时间点。泵44的入口处的涂布液的压力逐渐上升，而成为与涂布液的供给压力B一致的压力。该状态下，如果将开闭阀53闭合，则根据伴随该开闭阀53的闭合的体积变化，泵44的入口处的压力暂时上升。