[发明专利]偏光膜有效
| 申请号： | 201410382826.9 | 申请日： | 2011-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN104155713A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 后藤周作;泽田浩明;喜多川丈治;宫武稔 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C55/02;B29C55/06;B32B27/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏光 | ||
【权利要求书】：
1.一种偏光膜，其利用包含下述工序的偏光膜的制造方法而得到：
在热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇系树脂层制作层叠体的工序；
用碘对该层叠体的聚乙烯醇系树脂层进行染色的工序；
拉伸该层叠体的工序；
在该染色工序和拉伸工序之后，用透湿度为100g/m2·24h以下的覆盖薄膜覆盖该层叠体的聚乙烯醇系树脂层表面，在该状态下加热该层叠体的工序。
2.根据权利要求1所述的偏光膜，其中，所述加热温度为60℃以上。
3.根据权利要求1所述的偏光膜，其中，介由粘接剂用所述覆盖薄膜覆盖所述聚乙烯醇系树脂层表面。
4.根据权利要求3所述的偏光膜，其中，所述粘接剂为水系粘接剂。
5.根据权利要求1所述的偏光膜，其中，所述拉伸工序后的热塑性树脂基材的透湿度为100g/m2·24h以下。
6.根据权利要求1所述的偏光膜，其中，在硼酸水溶液中对所述层叠体进行水中拉伸。
7.根据权利要求6所述的偏光膜，其包括在所述染色工序和所述硼酸水中拉伸之前在95℃以上对所述层叠体进行空中拉伸的工序。
8.根据权利要求1所述的偏光膜，其中，所述层叠体的最大拉伸倍率为5.0倍以上。
9.根据权利要求1所述的偏光膜，其中，所述热塑性树脂基材由非晶质的聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂构成。
10.一种光学层叠体，其具有权利要求1-9所述的偏光膜。
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