[发明专利]一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料

权利要求书

1.一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于，包括如下质量份：预聚物25～70，环氧树脂30～60，稀释剂15～30，光敏剂1～5，消泡剂0.5～13,流平剂0.5～12,阳离子光引发剂1～8，自由基光引发剂1～8，阻聚剂2～8，催化剂0.7～1.3，增韧剂5～15，交联剂3～12。

2.根据权利要求1所述的一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于：所述预聚物为丙烯酸酯，所述丙烯酸酯为丙烯正丁酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸-2乙基己基酯、丙烯酸苯氧基乙基酯、丙烯酯2-羟丙基酯、丙烯酸环己基酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸二甲基氨基乙酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、1,6-己二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、邻苯二甲酸二乙二醇二丙烯酸酯、双酚A二乙二醇二丙烯酸酯和丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的一种或两种以上的混合物。

3.根据权利要求1所述的一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于：所述稀释剂为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯和二缩三丙二醇二丙烯酸酯中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于：所述光敏剂为自由基型光敏剂，所述自由基型光敏剂为苯乙酮、芳香酮或酰基膦氧化物中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于：所述阳离子光引发剂为异丙苯基芳茂铁盐、甲苯基芳茂铁盐、苯基芳茂铁盐和双-[4-(二苯硫鎓基)苯基]硫-2-六氟磷酸中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于：所述自由基光引发剂包括双甲基氨对氧氮环丁酮、硫代苯基一对氧氮环丙酮、2-氧硫杂蔥醌和2,2-二甲基-2-羟基苯乙酮。

7.根据权利要求1所述的一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于：所述阻聚剂为对苯二酚和对羟基苯甲醚中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于：所述催化剂为三乙醇胺、N，N-二甲基苄胺、N，N-二甲基苯胺、三乙胺中两种以上的混合物。

9.根据权利要求1所述的一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于：所述增韧剂为聚氨酯丙烯酸酯和邻苯二甲酸二辛酯中的至少一种。

10.根据权利要求1所述的一种应用于DLP3D打印机的新型光敏树脂材料，其特征在于：所述交联剂为双酚A环氧丙烯酸酯、酚醛丙烯酸酯、甘油环氧丙烯酸酯和三羟甲基丙烷丙烯酸酯中的一种或两种以上的混合物。