[发明专利]水平井连通设备井内校核方法有效
申请号: | 201410386501.8 | 申请日: | 2014-08-06 |
公开(公告)号: | CN104179490B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 赵世军;李浩;王爱玲;王风锐;王锐;谭天宇 | 申请(专利权)人: | 中国石油集团渤海钻探工程有限公司 |
主分类号: | E21B47/00 | 分类号: | E21B47/00 |
代理公司: | 天津才智专利商标代理有限公司12108 | 代理人: | 王顕 |
地址: | 300457 天津市滨海新区开发*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水平 连通 设备 校核 方法 | ||
技术领域
本发明涉及钻探技术领域,具体而言,涉及一种水平井连通设备井内校核方法。
背景技术
我国是世界煤炭资源大国,煤层气资源丰富,资源量达36.81×1012m3,具有广阔的开发前景。现阶段我国煤层气开发中,直井占主导地位,但单井产量低、开发成本高,制约了煤层气的增储上产,给煤层气的高效经济开发带来了严峻挑战,水平井是实现煤层气高效开发的一种重要途径,未来将形成以水平井为主、直井为辅的模式。随着煤层气开发的进展,出现了U型井、多分支水平井、E型井等新型煤层气水平井井型,这些井型具有一个重要的共同特点:需要进行井眼连通作业。井眼连通技术是煤层气水平井开发的核心技术,井眼连通成功与否,直接影响煤层气水平井开发成败。
连通设备在工作过程中需要采集所在位置的地磁场的磁感应强度数据,但套管会对地磁场产生干扰。因此,在煤层气水平井连通作业前对连通设备进行井内校核、确定设备最佳放置位置,杜绝套管对连通设备的信号干扰和提高设备的可靠度对保证连通取得成功尤为重要。
目前国内外连通仪器主要在地面进行校核,还没有系统科学的井内校核方法。由于井内工作环境条件较地面恶劣复杂,加之一些偶发性因素,连通设备经地面校核后下入井内,也可能出现工作状态异常的情况,从而导致连通失败。
因此,需要一种新的水平井连通设备井内校核方法,能够进一步提高设备可靠性,更好地确保水平井连通成功。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于,提供一种新的水平井连通设备井内校核方法,能够进一步提高设备可靠性,更好地确保水平井连通成功。
本发明提供的水平井连通设备井内校核方法包括:
步骤102,获取竖直井内玻璃钢套管所在位置的深度范围h为a≤h≤b;
步骤104,将连通设备下放至竖直井内深度为b处;
步骤106,以1m/min的速度提升所述连通设备至深度为a处;
步骤108,每提升0.5m采集一次所述连通设备所在位置的磁感应强度,并将所采集到的磁感应强度值与相应位置的标准磁感应强度值进行比较,得到两者相差最小的位置为所述连通设备的最佳工作位置。
由于玻璃钢为低磁性材料,所以连通设备的最佳位置就在玻璃钢套管段,所以先确定玻璃钢套管的位置后再在其范围内采集磁感应强度数据,通过将检测到的磁感应强度与相应位置的标准磁感应强度进行比较,从而能够找到地磁受套管影响最小的位置,也就确定所述连通设备的最佳工作位置,实现了连通设备的井下校核,更好地保证连通设备在井下工作的可靠性,确保水平井连通成功。其中,玻璃钢套管所处的深度范围,可以根据套管的设计图纸等方式获得。
优选地,所述的水平井连通设备井内校核方法还包括:在实施所述步骤102前,利用所述连通设备在地面采集至少一个位置的磁感应强度值,并与相应位置的标准磁感应强度值进行比较,若两者相差均小于第一预设值,则判断所述连通设备工作状态正常,否则为不正常。在该技术方案中,根据生产实践需要确定一个允许的误差范围,例如-5000nT~5000nT,即所述第一预设值为5000nT,当连通设备所处位置的磁感应强度相对于标准的地磁磁感应强度的误差在这个范围内时,才能够保证连通设备的正常工作状态,而如果井下任何位置都无法满足这个范围,则认为连通设备在井下无法正常工作,再去寻找问题所在,直至问题解决,最终可以更好地保证连通设备在井下的工作状态是良好的,保证连通作业的顺利进行。
优选地,根据所述连通设备的工作状态获取所述玻璃钢套管所在的深度范围。通过观察所述连通设备的工作状态,例如当连通设备进入玻璃钢套管范围时,其波形会变得规则,当不在玻璃钢套管范围时,由于普通套管对地磁场的干扰而使波形变得混乱,从而判断出玻璃钢套管所在的深度范围;由于连通设备下放后会导致电缆拉长,所以仅根据套管的涉及图纸判断会产生一定的误差,采用本技术方案中的方法则更加准确、可靠。
优选地,当所述连通设备下放的深度达到第二预设值时,控制所述连通设备的下放速度至1m/min。在在该技术方案中,根据套管的布置情况,当连通设备快到到达玻璃钢套管段的时候降低其下放速度,从而可以更准确地判断玻璃钢套管段的深度范围,提高了测量精度。
附图说明
图1是根据本发明实施例的井下结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
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