[发明专利]在一基板上形成一凹凸结构的方法与模具制作的方法在审
申请号: | 201410388909.9 | 申请日: | 2011-03-28 |
公开(公告)号: | CN104181633A | 公开(公告)日: | 2014-12-03 |
发明(设计)人: | 王康华;王凯俊;叶芳君;杨景安;黄怡君 | 申请(专利权)人: | 友辉光电股份有限公司 |
主分类号: | G02B6/00 | 分类号: | G02B6/00;G02B5/04;G02B5/02;G02B3/00;G02F1/13357 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨;李林 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一基板上 形成 凹凸 结构 方法 模具 制作 | ||
1.一种在一基板上形成一凹凸结构的方法,其特征在于,该方法包含下列步骤:
通过一控制系统在一模具的一表面上依序刻划复数个沟槽,其中该复数个沟槽包含至少一第一沟槽,其中对于该至少一第一沟槽中任一个第二沟槽,该第二沟槽和不同于该第二沟槽的至少一第三沟槽重叠,以使该第二沟槽被该至少一第三沟槽所截断;以及
使用该模具的该表面压印在该基板上的一薄膜以在该基板上形成该凹凸结构。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于:对于该至少一第一沟槽中任一第二沟槽,该第二沟槽和至少一第四沟槽重叠,该至少一第四沟槽不同于该第二沟槽和该至少一第三沟槽,该第二沟槽未被该至少一第四沟槽所截断。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于:该复数个沟槽中每一个沟槽皆为被该至少一第三沟槽所截断的该第二沟槽。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于:该基板为一光学基板,其中该光学基板具有一光输入面和光输出面,且该凹凸结构形成在该基板的该光输入面上。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于:该凹凸结构为一透镜结构。
6.如权利要求4所述的方法,其特征在于:该凹凸结构为一棱镜结构。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于:该基板为一光学基板,其中该光学基板具有一光输入面和光输出面,且该凹凸结构系形成在该基板的该光输出面上。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于:该凹凸结构为一透镜结构。
9.如权利要求7所述的方法,其特征在于:该凹凸结构为一棱镜结构。
10.如权利要求1所述的方法,其特征在于:该控制系统为一电脑数值控制(CNC)系统,且该模具为一滚轮。
11.如权利要求1所述的方法,其特征在于:通过该复数个沟槽的深度变化使得该第二沟槽和不同于该第二沟槽的至少一第三沟槽重叠。
12.如权利要求1所述的方法,其特征在于:通过控制该复数个沟槽的摆动使得该第二沟槽和不同于该第二沟槽的至少一第三沟槽重叠。
13.如权利要求1所述的方法,其特征在于:通过同时控制该复数个沟槽的深度变化和摆动使得该第二沟槽和不同于该第二沟槽的至少一第三沟槽重叠。
14.如权利要求1所述的方法,其特征在于:该至少第一沟槽未被截断的部分对应该凹凸结构的复数个片段。
15.如权利要求14所述的方法,其特征在于:至少一个片段从该基板一边缘延伸至该基板内部的一点。
16.如权利要求14所述的方法,其特征在于:至少一个片段从该基板内部的一第一点延伸至该基板内部的一第二点。
17.如权利要求14所述的方法,其特征在于:该凹凸结构包含在该复数个片段之间的空间或平板,该空间或平板对应在该模具的该表面上未刻划该复数个沟槽的区域。
18.如权利要求14所述的方法,其特征在于:至少一个片段皆为双凸片段。
19.一种在一基板上形成一凹凸结构的方法,其特征在于,该方法包含下列步骤:
通过一电脑数值控制(CNC)系统在一滚轮的一表面上依序刻划复数个沟槽,该复数个沟槽中每一个沟槽沿一第一方向上刻划,其中该复数个沟槽包含至少一第一沟槽,其中对于该至少一第一沟槽中任一个第二沟槽,该第二沟槽和不同于该第二沟槽的至少一第三沟槽重叠,以使该第二沟槽被该至少一第三沟槽所截断;以及
使用该模具的该表面压印在该基板上的一薄膜以在该基板上形成该凹凸结构,其中该至少第一沟槽未被截断的部分对应该凹凸结构的复数个片段。
20.一种模具制作的方法,其特征在于:该方法包含通过一控制系统在一模具的一表面上依序刻划复数个沟槽,其中该复数个沟槽包含至少一第一沟槽,其中对于该至少一第一沟槽中任一个第二沟槽,该第二沟槽和不同于该第二沟槽的至少一第三沟槽重叠,以使该第二沟槽被该至少一第三沟槽所截断。
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