[发明专利]一种氧化锆真空镀膜无效
| 申请号： | 201410395562.0 | 申请日： | 2014-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN104129117A | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 陈学兵 | 申请（专利权）人： | 苏州普京真空技术有限公司 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;C23C14/08 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 刘述生 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 氧化锆 真空镀膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种氧化锆真空镀膜，其特征在于，包括中间基层和两层氧化锆层，所述两层氧化锆层分别位于所述中间基层的上下两侧，所述中间基层上层的所述氧化锆层的厚度大于所述中间基层下层的所述氧化锆层的厚度。
2.根据权利要求1所述的氧化锆真空镀膜，其特征在于，所述中间基层为氧化硅或氧化钙。
3.根据权利要求1所述的氧化锆真空镀膜，其特征在于，所述中间基层上层的所述氧化锆层的厚度为0.03-0.08mm。
4.根据权利要求1所述的氧化锆真空镀膜，其特征在于，所述中间基层下层的所述氧化锆层的厚度为0.01-0.03mm。
5.根据权利要求1所述的氧化锆真空镀膜，其特征在于，所述中间基层的厚度为0.03-0.06mm。
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