[发明专利]电容式触摸屏及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201410395750.3 申请日: 2014-08-12
公开(公告)号: CN105335029A 公开(公告)日: 2016-02-17
发明(设计)人: 王士敏;曾富强;何云富;郭志勇;李绍宗 申请(专利权)人: 深圳莱宝高科技股份有限公司;重庆莱宝科技有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 电容 触摸屏 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种电容式触摸屏制作方法,其至少包括以下步骤:

提供一至少具有一第一表面的基板;

在所述第一表面上形成多个第一电极单元;

在所述第一表面上形成至少一桥接结构,所述桥接结构电性连接相邻的两所述第一电极单元,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物。

2.如权利要求1所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述桥接结构还包括一第二功能层,所述制作方法还包括在所述第一功能层上形成所述第二功能层的步骤,所述第二功能层至少由具有良好导电性能的材料制成,所述第二功能层在所述第一表面上的投影被所述第一功能层在所述第一表面上的投影覆盖。

3.如权利要求2所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述桥接结构还包括一第三功能层,所述制作方法还包括在所述第二功能层上形成所述第三功能层的步骤,所述第三功能层至少由具有保护功能的材料制成。

4.如权利要求1所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述导电化合物为金属氮化物,所述第一功能层的制作方法为,在溅射金属材料时通入氮气。

5.如权利要求4所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述金属材料为钼或铬,所述金属氮化物为氮化钼或者氮化铬。

6.如权利要求1所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述制作方法还包括在所述第一表面上形成多个第一电极单元的同时形成多个第二电极单元以及第二连接线的步骤,所述第二连接线电性连接相邻的两所述第二电极单元,所述绝缘块形成于所述第二连接线上,所述桥接结构形成于所述绝缘块之上,所述绝缘块面向所述桥接结构的一面的表面粗糙度大于所述基板的第一表面的表面粗糙度,所述第一电极单元沿第一方向设置,所述第二电极单元沿第二方向设置。

7.如权利要求1所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述第一表面至少包括第一区域和第二区域,所述第二区域至少位于所述第一区域的一侧且邻接于所述第一区域,多个所述第一电极单元形成于所述第一区域所在的第一表面上,所述制作方法还包括,在形成多个所述第一电极单元之前,还包括在所述第二区域上形成遮挡层的步骤。

8.如权利要求7所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述制作方法还包括在所述第一表面形成导电引线的步骤,所述导电引线形成于所述第二区域并位于所述遮挡层之上,所述导电引线与所述桥接结构在同一制程中一并制成。

9.一种电容式触摸屏,其至少包括:

一至少具有一第一表面的基板;

形成于所述第一表面上的多个第一电极单元;

将相邻的两所述第一电极单元电性连接的至少一桥接结构,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物。

10.一种电容式触摸屏制作方法,其至少包括以下步骤:

提供一至少具有一第一表面的基板;

在所述第一表面上形成至少一桥接结构,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物;

在所述第一表面上形成多个第一电极单元,所述桥接结构电性连接相邻的两所述第一电极单元。

11.如权利要求10所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述制作方法还包括在所述第一表面上形成多个第一电极单元的同时形成多个第三电极单元、多个绝缘块以及第三连接线的步骤,所述第三连接线电性连接相邻的两所述第三电极单元,所述绝缘块形成于所述桥接结构上,所述第三连接线形成于所述绝缘块之上,所述绝缘块面向所述第三连接线的一面的表面粗糙度大于所述基板的第一表面的表面粗糙度,所述第一电极单元沿第一方向设置,所述第三电极单元沿第三方向设置。

12.如权利要求11所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述第一表面至少包括第一区域和第二区域,所述第二区域至少位于所述第一区域的一侧且邻接于所述第一区域,多个所述第一电极单元、多个所述第三电极单元形成于所述第一区域所在的第一表面上,所述电容式触摸屏还包括形成在所述第二区域上的一遮挡层、一绝缘层以及导电引线层,所述遮挡层与所述第一功能层在同一制程中一并制成,所述绝缘层与所述绝缘块在同一制程中一并制成,所述导电引线与所述第一电极单元、第三电极单元在同一制程中一并制成。

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