[发明专利]利用两步法制备表面微纳图形的方法

权利要求书

1.利用两步法制备表面微纳图形的方法，包括如下步骤：

(1)在待加工材料表面的加工区域涂覆光敏聚合材料；

(2)根据在待加工材料表面制备的微纳图形设计聚焦元件的形状，利用飞秒激光多光子聚合加工装置对所述光敏聚合材料进行多光子聚合加工，即在待加工材料表面的加工区域得到所述聚焦元件；

所述飞秒激光多光子聚合加工装置包括飞秒激光器；

(3)利用表面微纳图形的激光加工装置对所述聚焦元件进行激光照射，即在待加工材料表面得到微纳图形；

所述表面微纳图形的激光加工装置包括脉冲激光器。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤(1)中，所述光敏聚合材料为光敏聚合物、有机陶瓷或半导体材料。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：步骤(2)中，以球体或圆柱体为加工基本单位形成所述聚焦元件；

所述球体和所述圆柱体的直径均小于5μm。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于：步骤(2)中，控制所述飞秒激光器的条件如下：

激光波长为775nm～1550nm；

脉冲宽度为10fs～200fs；

重复频率为20MHz～100MHz；

功率为1mW～100mW。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于：步骤(3)中，控制所述脉冲激光器的条件如下：

波长为266nm～1064nm；

脉宽为纳秒级、皮秒级或飞秒级；

可触发单脉冲模式，单脉冲能量密度为0.1J/cm²～5J/cm²。