[发明专利]用于冻干机的冻干箱的密封圈在审

专利信息
申请号: 201410397900.4 申请日: 2014-08-13
公开(公告)号: CN105333143A 公开(公告)日: 2016-02-17
发明(设计)人: 郑效东 申请(专利权)人: 上海共和真空技术有限公司
主分类号: F16J15/06 分类号: F16J15/06
代理公司: 上海集信知识产权代理有限公司 31254 代理人: 肖祎
地址: 201109 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 冻干机 冻干箱 密封圈
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种制药冻干机的密封装置,具体说涉及一种冻干机箱门密封圈。

背景技术

制药冻干机在工作结束后,为了避免交叉污染,必须对冻干箱进行在位清洗(CIP)和在位灭菌(SIP),以保证无菌的要求。在位清洗(CIP)后清洗水必须被排出冻干箱外,冻干箱内应避免有残留水的存在。如图1a所示,目前冻干机厂家采用的冻干箱的箱门1的密封圈一般是采用O形密封圈3a,而在箱体门框2上的密封槽2a的结构是采用方形槽,这样在箱门1关闭后,如图1b所示,由于挤压产生的压力,使得O密封圈在方形槽内被挤压成椭圆形密封圈3b;同时由于箱门1和箱体门框2都是由厚型不锈钢加工制造而成,不可能完全贴合,所以在箱门1和箱体门框2间会形成一条缝隙5,当在位清洗(CIP)结束后排水时,在这条缝隙中就可能会有残留水6存在,从而产生污染留存的风险。因此需要开发一种可消除箱门和箱体门框间缝隙的冻干箱箱门密封圈,以有效消除残留水的风险,进而保证药品生产质量管理规范(GMP)对无菌的要求。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于冻干机的冻干箱的密封圈,可在箱门关闭后填补箱门和箱体门框间的缝隙空间,有效地消除残留水的风险,以保证GMP对无菌的要求。

本发明的用于冻干机的冻干箱的密封圈,其中冻干箱包括箱体和可相对所述箱体的箱体门框开闭的箱门,在所述箱体门框和所述箱门之一的周边形成有密封槽,其中所述密封槽的截面呈凹入T形,所述密封圈包括下部和上部,所述下部在自由状态时与所述T形密封槽配合,所述上部形成有高出密封槽外的凸起,在所述箱门关闭上所述箱体门框后所述上部的凸起在受到挤压力的作用而向外延展,以形成具有T形截面的密封圈,并完全嵌入在所述截面呈T形的密封槽内而完全填补所述箱门和所述箱体门框间缝隙空间。

所述的密封槽形成在所述箱体门框上。

所述的密封槽形成在所述箱门上。

本发明的密封圈在箱门关闭上箱体门框后,其上部在受挤压产生的压力的作用下向外延展,填补了箱门和箱体门框间缝隙空间,使得箱门和箱体门框紧密贴合,以有效地避免箱门和箱体门框间缝隙存在残留水的可能,从而确保GMP对无菌的要求。

附图说明

图1a和图1b是采用现有技术的O形密封圈在冻干机的冻干箱上使用情况示意图;

图2a和图2b是本发明一个实施例的用于冻干机的冻干箱的密封圈使用情况的示意图。

具体实施方式

为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明。首先需要说明的是,本发明并不限于下述具体实施方式,本领域的技术人员应该从下述实施方式所体现的精神来理解本发明,各技术术语可以基于本发明的精神实质来作最宽泛的理解。在附图中相同的附图标记表示相同的部分。

本发明一个实施例的用于冻干机冻干箱的密封圈,其中冻干箱包括箱体和可相对箱体的箱体门框2开闭的箱门1,在箱体门框2和箱门之一,如在本实施例的箱体门框2的周边形成有密封槽2a’,其中密封槽2a’的截面呈凹入T形,密封圈4a包括下部4a’和上部4a”,下部4a’在自由状态时与T形密封槽2a’配合,上部形成有高出密封槽2a’外的凸起4a”,如图2a、2b所示。在箱门1关闭上箱体门框2后,上部的凸起4a”在受到挤压力的作用而向外延展,以形成具有T形截面的密封圈4b,并完全嵌入在截面呈T形的密封槽2a’内而完全填补箱门1和所述箱体门框2间缝隙5空间。图中所示实施例是将T形密封槽2a’设置在箱体门框2上,很显然可以理解到,截面呈T形的密封槽2a’还可形成在箱门1上。

本发明的密封圈在箱门1关闭上箱体门框2后,其上部4a”在受挤压产生的压力的作用下向外延展,填补了箱门1和箱体门框2间缝隙5的空间,使得箱门1和箱体门框2紧密贴合,这样可有效地避免箱门1和箱体门框2间缝隙存在残留水的可能,从而确保GMP对无菌的要求。

同样可以理解到本发明的密封圈除了使用在生产型冻干机上外,还可以用在其他设备的箱门与箱体结合处需要减少能存水的地方

应理解,在阅读了本发明的上述讲授内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海共和真空技术有限公司,未经上海共和真空技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410397900.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top