[发明专利]一种非接触式微弧抛光工艺及其装置

权利要求书

1.一种非接触式微弧抛光工艺，其特征在于，包括以下步骤：

配置电解液：根据需要抛光的金属基体配置微弧氧化电解液，并在微弧氧化电解液中加入添加剂；

设计阴阳极参数：根据需抛光工件的大小调整控制微弧抛光电源两电极之间的间距在1-80mm；

控制流场环境：按照抛光和去除要求，设计流场体系；

设置电源参数：所述微弧抛光电源采用直流脉冲电源，脉冲波形为方波；根据金属基体控制电压300-600V，调控峰值电流波形的脉宽⊿t_on为2-80us，两个脉冲之间间隔⊿t_off为10-200us；

微弧抛光：将工件置于电解液中进行反应，反应过程中控制电解液温度25-60℃之间，处理时间8-40min。

2.按照权利要求1所述的一种非接触式微弧抛光工艺，其特征在于：所述步骤配置电解液中加入的添加剂为NaCl溶液、KCl溶液、NaF溶液、NaHCO₃溶液、NaOH溶液中的一种或几种的混合溶液，总量为0.5-5g/L。

3.按照权利要求1所述的一种非接触式微弧抛光工艺，其特征在于：所述步骤控制流场环境中，所述流场体系采用自下而上的流体管道，流速控制在0.5-2m/s。

4.按照权利要求1所述的一种非接触式微弧抛光工艺，其特征在于：所述步骤微弧抛光之间对工件进行除油除脂，在丙酮或酒精和蒸馏水中清洗3-5min，然后吹干。

5.按照权利要求1所述的一种非接触式微弧抛光工艺，其特征在于：所述步骤设置电源参数中，可以选择恒流模式或恒压模式，其中恒流模式下峰值电流密度10-200A/dm²；恒压模式下输出电压200-600V。

6.一种非接触式微弧抛光装置，其特征在于：包括微弧抛光电源和电解槽，所述电解槽内放置有电解液，所述微弧抛光电源的两级插入电解液中；所述电解槽外围设置有冷却水系统；所述微弧抛光电源的两级通过信号采集单元与控制系统电连接。