[发明专利]一种硫氧化钆闪烁陶瓷制备方法在审
申请号: | 201410399125.6 | 申请日: | 2014-08-14 |
公开(公告)号: | CN105439561A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 王燕春;张清军;李元景;陈志强;赵自然;刘以农;刘耀红;常建平;赵书清;张文剑;王永强 | 申请(专利权)人: | 清华大学;同方威视技术股份有限公司 |
主分类号: | C04B35/50 | 分类号: | C04B35/50;C04B35/645;G01T1/202 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 韦欣华;杨思捷 |
地址: | 100084 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 闪烁 陶瓷 制备 方法 | ||
1.一种硫氧化钆(GOS)闪烁陶瓷的制备方法,其包括;
向闪烁陶瓷粉体中添加助烧剂并混合均匀;
将添加有助烧剂的闪烁陶瓷粉体装入烧结模具内,进行单轴热压一次烧结,得到GOS烧结体;和
对所述GOS烧结体进行退火和热等静压二次烧结及二次退火,得到GOS闪烁陶瓷。
2.权利要求1所述的方法,其中通过球磨进行所述混合,以得到中值粒径为4-9μm的添加有助烧剂的闪烁陶瓷粉体一。
3.权利要求1所述的方法,其中通过球磨进行所述混合并通过球磨进行进一步细化,以得到中值粒径为0.2-4μm、优选1-3μm的添加有助烧剂的闪烁陶瓷粉体二。
4.权利要求1-3任一项所述的方法,其中所述助烧剂为LiF或Li2GeF6,且其添加量为闪烁陶瓷粉体质量的0.02-1%、优选0.1-1%。
5.权利要求1-4任一项所述的方法,其中所述单轴热压一次烧结包括预先加压至20-40MPa、优选地25-35MPa、最优选地30MPa,逐步升温至1000℃-1100℃,保温0.5-1h;继续升温至1250℃-1600℃,同时升压力至40-200MPa,保温2-5h,进行热压一次烧结,以得到GOS烧结体。
6.权利要求1-5任一项所述的方法,其中对于粉体一,一次烧结温度优选为1500℃-1600℃、优选1520-1580℃,最优选1550℃,一次烧结压力优选150-200MPa,最优选200MPa;对于粉体二,一次烧结温度优选为1250-1400℃,优选1300℃,一次烧结压力优选50-150MPa,更优选60MPa。
7.权利要求1-6任一项所述的方法,其中所述退火和热等静压二次烧结及二次退火包括将GOS烧结体在1000℃-1200℃温度范围内,优选地在马弗炉中,进行退火处理,然后在1300℃-1500℃、150-250MPa的惰性气体、优选氮气或氩气环境内进行热等静压二次烧结;然后对得到的二次烧结体进行退火,条件同上。
8.权利要求1-7任一项所述的方法,其中所述烧结模具为等静压石墨材质模具或碳纤维复合材质模具。
9.权利要求1-8任一项所述的方法,其中所述热压模具内镶嵌BN陶瓷衬筒,压轴方向接触闪烁陶瓷粉体的一面先垫BN陶瓷片再垫石墨纸。
10.权利要求1-9任一项所述的方法,其中热压一次烧结后得到的GOS烧结体的相对理论密度达到93%以上。
11.权利要求1-10任一项所述的方法,其中所述闪烁陶瓷粉体为纯度为99.999%的中值粒径为5-9μm的Gd2O2S:Pr,Ce闪烁陶瓷粉体。
12.由权利要求1-11任一项所述的方法获得的GOS闪烁陶瓷,对于2mm厚的样片在511nm波长处的积分透过率达到30%以上。
13.权利要求12的GOS闪烁陶瓷在安检物品机电离辐射探测器中的用途。
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