[发明专利]一种离子源挡板

说明书

技术领域

本发明涉及一种离子源挡板装置。属于离子源技术改进技术领域。具体为一种由气动阀控制的离子源挡板装置。

背景技术

离子源在物理气象沉积真空镀膜中有很重要的作用，离子源的清洗作用可有效清除工件表面的杂质，使涂层与工件表面同时存在物理气相沉积，导致涂层结合力高，膜层致密、韧性好。适用于切削刀具、注塑模具和发动机耐磨零部件的硬质涂层。离子源是离子清洗的核心部件，但是在真空镀膜过程中，离子源容易受靶材影响，导致离子源被污染，从而影响镀膜质量。一般传统装置离子源受污染不可避免，受污染后要把离子源整体定期拆卸下来，进行丙酮超声波清洗、表面打磨处理、二次清洗等工序，最后再重新组装，原样装回。这样做不仅费时费力，影响生产效率，最重要的是对离子源的核心部分会有一定的损伤，影响离子源使用效果及使用寿命。因此，需要一种特制的装置来改善离子源受污染问题同时提高生产效率和保证产品质量。

发明内容

针对上述技术问题，本发明提供一种离子源挡板来阻止离子源受到靶材的污染。

实现本发明的技术方案如下：一种离子源挡板包括底板，两根旋转轴的一端穿过底板与气动阀机械连接，二根旋转轴分别固定一块不绣钢板。

进一步讲，不绣钢板后端与旋转轴连接、前端设有弧形板。

进一步讲，分设在二个所述不绣钢板上的二个弧形板呈镜像对称，二个弧形板不相接触。

还可以，不绣钢板上设有凹槽，贴板上设有凸起，贴板的凸起能放入凹槽中，固定贴板与不绣钢板。

本发明的有益效果在于：解决了离子源受靶材污染的问题，减少清洗离子源周期，提高了生产效率，保证产品质量；装置原理巧妙同时又构造简单，易于实现，通过设凹槽固定贴板，可以增加离子源挡板的面积（可以更好的包裹离子源），方便对沉积室的清洗；离子源挡板由气动阀控制，实现在镀膜过程当中随时开启关闭，实用方便。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

图2为图1的侧视图。

图3为本发明优选结构俯视图。

图4为不绣钢板优选结构示意图。

图5为图4的A-A断面视图。

图中，1不绣钢板，2离子源，3旋转轴，4气动阀，5底板，6弧形板,7贴板。

具体实施例

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：

如图1、图2所示一种离子源挡板包括底板5，两根旋转轴3的一端穿过底板5与气动阀机4械连接，二根旋转轴3分别固定一块不绣钢板1，气动阀4控制不绣钢板1的打开或闭合，二块不绣钢板1闭合时遮挡住离子源2，二块不绣钢板1闭合时露出离子源2。

优选方案，如图3中，不绣钢板1后端与旋转轴3连接、前端设有弧形板6，分设在二个所述不绣钢板1上的二个弧形板6呈镜像对称，二个弧形板6不相接触，通过设置弧形板6能有效遮挡二块不绣钢板1之间的间隙。

如图4、图5中，不绣钢板1上设有凹槽，贴板7上设有凸起，贴板7的凸起能放入凹槽中，固定贴板7与不绣钢板1，增加不绣钢板1的面积（也可以将贴板7设计成弧形板6），更好的包裹离子源2，方便对沉积室内的清洗。

工作原理：在沉积室中，待开启离子源2后，由气动阀4带动旋转轴3，旋转轴3带动不绣钢板1，从而让不绣钢板1打开，离子源2开始工作。待离子源清2洗结束后，关闭气动阀4，气动阀4带动旋转轴3，旋转轴3带动不绣钢板1闭合（如图3所示，不绣钢板1前端设有弧形板6，可以有效遮挡二块不绣钢板1之间的间隙，能更好的保护离子源2）。离子源2的工作环境为真空环境，因此考虑用气动阀4控制，解决了在真空环境下开启靶材镀膜时对离子源2的实时保护。

工作间隙，需要清洗沉积室时，将贴板7的凸起能放入凹槽中，固定贴板7与不绣钢板1，增加不绣钢板1的面积，更好的包裹离子源2，方便对沉积室内的清洗，可防止对清洗过程中离子源2的污染。

本发明的实施例公布的是较佳的实施例，但并不限于此，本领域的技术人员，极易根据上述实施例，领会本发明的核心技术，做出不同的引申和改进，但只要不脱离本发明的精神，都在本发明的保护范围内。