[发明专利]具有包括光转向元件的突起的磁记录装置的滑动件及其制造方法有效
申请号: | 201410399939.X | 申请日: | 2014-08-14 |
公开(公告)号: | CN104376852B | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | R·K·史密斯 | 申请(专利权)人: | 希捷科技有限公司 |
主分类号: | G11B5/48 | 分类号: | G11B5/48;G11B5/84 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 李玲 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滑动件 突起 光转向元件 光源 磁记录装置 制造 光耦合 谐振腔 对准 伸出 | ||
1.一种磁记录装置,包括:
具有突起的滑动件,其中所述突起与滑动件一体地形成并且伸出到所述滑动件的外表面之上;以及
被设置在所述滑动件的外表面上的光源,所述光源包括基本平行于所述滑动件的外表面而对准的光学谐振腔,
所述突起包括光耦合至所述光源的光转向元件。
2.如权利要求1所述的磁记录装置,其特征在于:
所述滑动件的外表面包括顶表面、底表面、前表面、后表面以及两个相对的侧表面;以及
所述光学谐振腔与所述顶表面基本平行地对准。
3.如权利要求1所述的磁记录装置,其特征在于,所述光转向元件被配置成将来自所述光源的输出光沿基本垂直于所述光学谐振腔的方向引导。
4.如权利要求1所述的磁记录装置,其特征在于,所述光转向元件包括波导。
5.如权利要求1所述的磁记录装置,其特征在于,所述光转向元件包括光引导镜。
6.如权利要求1所述的磁记录装置,其特征在于,所述光源包括水平腔边缘发射激光二极管。
7.如权利要求1所述的磁记录装置,其特征在于:
所述光源包括基本与所述滑动件的顶表面平行而对准的光学谐振腔;以及
所述光转向元件被配置成接触所述滑动件的外表面。
8.如权利要求7所述的磁记录装置,其特征在于,所述光转向元件中的至少一部分伸出到所述滑动件的顶表面之上。
9.如权利要求1所述的磁记录装置,其特征在于:
所述滑动件包括波导;以及
所述突起被配置成充当所述光源与所述波导对准的止动结构。
10.如权利要求1所述的磁记录装置,其特征在于,所述滑动件包括被设置在所述滑动件的顶表面上的多个焊料凸块,所述焊料凸块被配置成电气地、机械地和热地将光源耦合至所述滑动件。
11.如权利要求10所述的磁记录装置,其特征在于:
所述突起包括波导;以及
被设置在滑动件的顶表面上的至少两个焊料凸块有利于响应至少两个焊料凸块的回流实现在光源的输出光和波导的输入之间的对准。
12.一种用于磁记录装置的方法,包括:
在晶片上布图沉积多组波导元件,每组波导元件包括在其突起部分内的光转向元件;
切割所述晶片以制造滑动条,所述滑动条包括所述多组波导元件中的一些;
布图蚀刻所述滑动条以制造滑动件,每个滑动件具有伸出到外表面之上的突起,所述突起包括一组波导元件;以及
将所述滑动条切块以制造滑动件本体。
13.如权利要求12所述的方法,其特征在于,所述晶片包括AlTiC。
14.如权利要求12所述的方法,其特征在于,所述布图沉积包括光刻和沉积。
15.如权利要求14所述的方法,其特征在于,所述布图沉积包括下列多个步骤:波导和包层材料的光刻和沉积,以形成光转向元件。
16.如权利要求12所述的方法,其特征在于,还包括斜坡蚀刻所述滑动件本体以形成所述光转向元件。
17.一种用于磁记录装置的方法,包括:
提供滑动件,所述滑动件具有外表面和后缘并具有沿所述滑动件的后缘布置的光波导;以及
沿基本与所述后缘垂直的方向将突起布图沉积到所述滑动件的外表面之上,所述突起包括光耦合至所述光波导的光转向元件。
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