[发明专利]一种磁致伸缩传感器的时差比例位移测量方法在审

专利信息
申请号: 201410401336.9 申请日: 2014-08-14
公开(公告)号: CN104154851A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 陆晓春;杨欣红;黄皎;马季;邱春毓;尹涛 申请(专利权)人: 河海大学常州校区
主分类号: G01B7/02 分类号: G01B7/02
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 213022 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 伸缩 传感器 时差 比例 位移 测量方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于传感器技术,具体是涉及一种磁致伸缩传感器的时差比例位移测量方法。

背景技术

磁致伸缩位移传感器是利用磁致伸缩材料的威德曼(Wiedeman)效应和威拉里(Villary)效应来实现绝对位移测量的非接触测量器,具有非接触、精度高、速度快、防护等级高、成本低等卓越特性,被广泛应用于机械、建筑、机床等行业。

对于磁致伸缩位移传感器位移测量的研究,主要集中在对扭转波到达时刻的提取以及如何降低系统中干扰信号方面。扭转波传播在2800m/s左右,根据磁致伸缩位移传感器的测量原理,这就要求当扭转波按已知的速度到达线圈时,处理器能够立即响应,获取信号到达时刻。同时,在系统中噪声干扰信号也伴随存在,影响处理器做出获取信号到达时刻的判断。要获得较纯净的扭转波信号,也要保证扭转波的传播速度不受外界影响,必然对抑制和去除干扰信号提出了更高的要求。

目前计算位移所采用的公式为X=v×t中,X表示所测位移,v表示扭转波在波导丝上传播的速度,t表示扭转波在波导丝上传播的时间。目前单片机的时钟振荡频率会因长时间工作等外部因素产生漂移现象。按现有的方法测量,测量相同的位移,根据公式X=v×t,在一个测量周期内默认频率不发生变化,若实际频率偏高,时钟计数值偏大,时间与速度乘积偏大,导致X值偏大,误差产生。而当测量系统受外界温度变化影响,波导丝老化,会造成扭转波传播速度漂移现象。按现有的方法测量,当测量定长时,X=v×t,当实际速度减小,测量时间变大,而系统默认的速度未变,则导致速度与时间的乘积变大,导致测量结果偏大,产生偏差。

申请号为201010117461.9的专利申请公开了“低噪声磁致伸缩位移传感器”。该发明提出了一种差动式线圈结构接入电路进行降噪的思想,外加屏蔽器、阻尼器件,降噪效果明显,提高了检测精度。但该发明结构复杂,工艺精细,且在外设的屏蔽器、阻尼器安装效果不佳、外界时钟频率发生变化或波导丝材质发生变化引起扭转波速度发生变化时,同样会影响测量精度。

申请号为201010117458.7的专利申请公开了“双丝差动型磁致伸缩位移传感器”。该发明提供了两组信号发生组件拾取磁铁组件的位置信息,由于两个感应线圈反向串联构成差动形式,两组信号发生组件中的噪声信号是相同的,总的输出信号中干扰与噪声会显著降低,提高了检测精度。但该装置结构复杂,安装繁琐,成本较大,且波导丝中只要有一根出现异常,就会导致降低干扰与噪声的效果不佳,从而影响测量精度。而且在外界时钟频率发生变化或波导丝材质发生变化引起扭转波速度发生变化时,导致误差产生,同样会影响测量精度。

由此可见,上述现有的磁致伸缩位移传感器位移测量方法,显然仍存有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。

发明内容

为了解决现有技术中的问题,本发明提供了一种将扭转波返回信号充分利用,减少了复杂的降噪滤波系统,从而简化了系统,节约了成本,提高了计算精度的磁致伸缩传感器的时差比例位移测量方法。

为了解决上述问题,本发明所采取的技术方案是:

一种磁致伸缩传感器的时差比例位移测量方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:

1)、由脉冲信号产生与接收模块触发产生周期性的激励始发脉冲送至磁致伸缩位移传感器波导丝输入端,磁致伸缩位移传感器输出端输出电压脉冲信号经信号处理模块传输至单片机进行处理;

2)、脉冲信号产生与接收模块采集激励信号发生时刻记录为t1,信号从测量位置到达线圈的时刻记录为t2,信号经过波导丝始端返回到线圈的时刻记录为t3

3)、由于在制作传感器时,激励信号始端和感应线圈之间的距离固定为L,结合信号到达线圈各个时刻及根据数学原理推理可得所测位移大小为:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河海大学常州校区,未经河海大学常州校区许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410401336.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top