[发明专利]一种覆膜栽培有机黄豆的方法在审
申请号: | 201410403622.9 | 申请日: | 2014-08-18 |
公开(公告)号: | CN105432266A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 王贵孝 | 申请(专利权)人: | 王贵孝 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00;A01G13/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 730900 甘肃省白*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 栽培 有机 黄豆 方法 | ||
技术领域
本发明属于农作物栽培技术领域,具体地涉及一种覆膜栽培有机黄豆的方法。
背景技术
黄豆的营养价值丰富,含蛋白质40%左右,其中含有生物必需的8种氨基酸:赖氨酸、蛋氨酸、亮氨酸、异亮氨酸、苏氨酸、缬氨酸、色氨酸和苯丙氨酸,富含不饱和脂肪酸,可以降低人体血清胆固醇;黄豆异黄酮能够抑制癌症,防止骨质疏松,降低胆固醇;黄豆皂甙具有降低血脂和血清胆固醇的功效;黄豆低聚糖能促进肠道内双歧杆菌的增殖,改善肠道菌群等功效;所含的软磷脂是大脑细胞组成的重要部分,常吃黄豆对增加和改善大脑技能有重要的效能。祖国医学认为,服食黄豆可另人长肌肤,益颜色,填精髓,增力气,补虚开胃,是适宜虚弱者使用的补益食品,具有益气养血,健脾宽中,健身宁心,下利大肠,润燥消水的功效。
随着种植业结构的调整,在保持粮食总产的基础上,突出抓好蔬菜、油料生产,振兴发展黄豆产业对种植业结构的调整显得尤为重要。黄豆生产中存在的主要问题是管理比较粗放,容易发生病害,为防治虫害和草害需要大量施用化学农药和除草剂,造成环境污染,提高了生产成本,为提高产量还要施用化肥,不仅成本高,也影响土质,导致种植户收入不稳定,从而导致种植户对黄豆的种植缺乏积极性,所以研发一种黄豆高产高效的绿色有机栽培技术便显得尤为重要。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有黄豆栽培技术的缺陷,提供一种覆膜栽培有机黄豆的方法,该方法解决了黄豆露地平播常规种植方式产量低和效益低的问题,能显著提高籽粒产量。
为了实现上述目的,本发明采用以下技术方案予以实现:
一种覆膜栽培有机黄豆的方法,包括以下步骤:
⑴选种选茬
选择籽粒饱满、抗病性高、产量高的高蛋白黄豆种子,其纯净度及发芽率均在95%以上,含水量不高于12%;选择禾本科作物为前茬的翻耕地块,如玉米、小麦等;
⑵整地施肥
深翻土地35-40cm,精细整地,起垄,垄宽65-70cm,垄高10-15cm,垄沟宽30-35cm;在整地的同时,施足基肥,基肥包括:每亩施加农家有机肥2000-2500kg、草炭灰40-65kg、豆饼10-15kg、膨润土25-60kg、硫酸钾0.5-2.5kg、硫酸锌0.5-1.2kg、磷酸二铵5-8kg和硫酸锰0.5-1.2kg;
⑶播种覆膜
将黄豆种子与0.1-0.2%的钼酸铵进行拌种后播种,精量穴播,每垄两行,行间距30-40cm,穴间距4.5-5cm;播种后即覆盖黑白双面地膜,膜厚0.015-0.02mm,膜宽75-80cm,覆盖时地膜黑面向下,白面向上。
所述的农家有机肥包括干鸡粪、牛粪、羊粪;所述的黑白双面地膜,白面向上可反光降温,黑面向下可灭草,覆盖黑白双面地膜可节水抗旱,增强了土壤的氨化作用,硝化作用和固氮作用,促进种子发芽及营养生长;所述的膨润土、草炭灰可改善土壤,并增加肥力。
作为一种优选的技术方案,采用玉米-黄豆-小麦的轮作倒茬栽培模式。
作为一种优选的技术方案,在施加基肥时,施加石灰10-15kg/亩,促进黄豆生长。
作为一种优选的技术方案,在施加基肥时,施加亚硒酸钠0.1~0.4kg/亩,增加收获黄豆籽粒的硒含量。
作为一种优选的技术方案,在覆盖地膜前,铺设滴灌系统,进行膜内滴灌浇水方式。
本发明的有益效果是:本发明可解决黄豆露地平播常规种植方式产量低和效益低的问题,显著提高籽粒产量;所施基肥合理,能改善土壤,覆黑白双面膜能节水抗旱、除草,有利于节约水资源,节省劳动力。
具体实施方式
结合实施例进一步对本发明作阐述,不构成对本发明的限制。
实施例1
一种覆膜栽培有机黄豆的方法,包括以下步骤:
⑴选择籽粒饱满、抗病性高、产量高的高蛋白黄豆种子,其纯净度及发芽率均在95%以上,含水量不高于12%;选择玉米为前茬的翻耕地块;⑵深翻土地35cm,精细整地,起垄,垄宽65cm,垄高10cm,垄沟宽30cm,在整地的同时,施足基肥,每亩施加农家有机肥2000kg、草炭灰40kg、豆饼10kg、膨润土25kg、硫酸钾0.5kg、硫酸锌0.5kg、磷酸二铵5kg和硫酸锰0.5kg;⑶将黄豆种子与0.1%的钼酸铵进行拌种后播种,精量穴播,每垄两行,行间距30cm,穴间距4.5cm;播种后即覆盖黑白双面地膜,膜厚0.015mm,膜宽75cm,覆盖时地膜黑面向下,白面向上。
实施例2
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王贵孝,未经王贵孝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410403622.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种西洋甘菊盆栽化栽培方法
- 下一篇:灵芝孢子粉收集器