[发明专利]一种制造聚合物复合气体敏感薄膜的方法无效
申请号: | 201410404421.0 | 申请日: | 2014-08-18 |
公开(公告)号: | CN104155414A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 杨亚杰;杨晓洁;袁文涛;杨文耀;徐建华;蒋亚东 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G01N33/00 | 分类号: | G01N33/00 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 谭新民 |
地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制造 聚合物 复合 气体 敏感 薄膜 方法 | ||
1.一种制造聚合物复合气体敏感薄膜的方法,其特征在于,包括:
将氧化石墨烯量子点和氧化剂溶于第一有机溶剂中,获得氧化石墨烯量子点/氧化剂分散液;
将导电聚合物单体溶于第二有机溶剂溶液中,获得导电聚合物单体分散液;
将所述氧化石墨烯量子点/氧化剂分散液和所述导电聚合物单体分散液混合使所述导电聚合物单体发生聚合反应,获得氧化石墨烯量子点/导电聚合物分散液;
将所述氧化石墨烯量子点/导电聚合物分散液的至少一部分铺展于LB膜槽中的混合溶剂表面,形成氧化石墨烯量子点/导电聚合物复合薄膜;
将所述氧化石墨烯量子点/导电聚合物复合薄膜的至少一部分转移至基片表面;
将形成了所述氧化石墨烯量子点/导电聚合物复合薄膜的所述基片置于高温水汽气氛中进行热处理,获得多孔氧化石墨烯量子点/导电聚合物复合薄膜;
在形成了多孔氧化石墨烯量子点/导电聚合物薄膜的基片上沉积金属氧化物层,获得多孔氧化石墨烯量子点/导电聚合物/金属氧化物复合薄膜。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于:所述第一溶剂为超纯水和甲醇的混合溶液。
3.如权利要求1或者2所述的方法,其特征在于:第二有机溶剂为正丁醇、异丙醇和丙酮中的一种或多种形成的混合溶剂。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的导电聚合物单体为噻吩和/或3,4-乙烯二氧噻吩。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的氧化剂为三氯化铁或者甲基苯磺酸铁。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于:所述混合溶剂为超纯水与正丁醇、甲醇和异丙醇中的一种形成的混合溶液。
7.如权利要求1至6中任意一项所述的方法,其特征在于:所述高温水汽气氛的温度为200摄氏度至220摄氏度,蒸汽压力为0.11至0.15兆帕(MPa)。
8.如权利要求1至6中任意一项所述的方法,其特征在于:在所述高温水汽气氛中的热处理的时间为30分钟至40分钟。
9.如权利要求1至6中任意一项所述的方法,其特征在于:所述金属氧化物为氧化钛或者氧化锌。
10.如权利要求1至6中任意一项所述的方法,其特征在于:所述基片为硅/二氧化硅/金平面电极结构。
11.如权利要求1至6中任意一项所述的方法,其特征在于:用原子层沉积方法或者化学气相沉积方法在形成了所述多孔氧化石墨烯量子点/导电聚合物薄膜的基片上沉积所述金属氧化物层。
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