[发明专利]一种高致密铬钨合金靶材的制备方法

权利要求书

1.一种铬钨合金靶材的制备方法，其特征在于，所述铬钨合金靶材的制备方法，包括以下步骤：

步骤一、将钨粉进行还原处理，得到还原后的钨粉；

步骤二、将所述还原后的钨粉和铬粉制备得到预合金粉末；所述预合金粉末是所述还原后的钨粉与铬粉进行磨粉处理得到的；所述磨粉处理采用高能球磨制粉处理；

步骤三、将所述预合金粉末原料进行装包套处理，得到装满的包套；

步骤四、将所述装满的包套进行脱气处理，得到脱气后的包套；

步骤五、对所述脱气后的包套进行热等静压处理，得到压制后的锭坯，再去除包套得到压制后的坯料；所述热等静压处理的保温温度为1250～1445℃，保温时间为2～5h，压力为120～150MPa；

步骤六、将所述压制后的坯料进行机加工处理，得到所述铬钨合金靶材；所述铬钨合金靶材包括以下原子百分比的成分：铬80～99％，钨1～20％。

2.根据权利要求1所述铬钨合金靶材的制备方法，其特征在于，所述铬钨合金靶材包括以下原子百分比的成分：铬90％，钨10％。

3.根据权利要求1所述铬钨合金靶材的制备方法，其特征在于，所述合金靶材的相对密度不低于99％，平均晶粒尺寸不大于50μm。

4.根据权利要求1所述铬钨合金靶材的制备方法，其特征在于，所述高能球磨制粉处理，是指于惰性气体保护条件下在高能球磨机中混合4～24h。

5.根据权利要求1所述铬钨合金靶材的制备方法，其特征在于，所述预合金粉末的平均粒径不大于50μm。

6.根据权利要求1所述铬钨合金靶材的制备方法，其特征在于，在所述步骤一中，所述还原处理是在850～950℃下通入氢气。

7.根据权利要求1所述铬钨合金靶材的制备方法，其特征在于，在所述步骤四中，所述脱气处理的温度为300～500℃，时间为5～30h。

8.根据权利要求7所述铬钨合金靶材的制备方法，其特征在于，所述脱气处理时的真空度为10^-1Pa～10^-4Pa。