[发明专利]研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法

权利要求书

1.一种研磨剂，其特征在于，含有水、4价金属氢氧化物粒子及添加剂，所述添加剂含有选自阳离子性的聚合物和阳离子性的多糖类中的至少一种，所述阳离子性的聚合物和阳离子性的多糖类选自以下的(1)～(3)组成的组：

(1)葡糖胺、半乳糖胺、N-乙酰基葡糖胺、硫酸葡糖胺、N-氨基甲酰基葡糖胺、葡糖胺盐酸盐、葡糖胺醋酸盐、葡糖胺硫酸盐、N-乙酰基半乳糖胺，选自甲壳质、脱乙酰度20％以上的壳聚糖、对于包含壳聚糖0.5％及醋酸0.5％的水溶液在20℃下使用B型粘度计测定的粘度为1～10000mPa·s的壳聚糖、软骨素、透明质酸、硫酸角质素、硫酸乙酰肝素、肝素、硫酸皮肤素以及它们的衍生物组成的组中的具有氨基糖的多糖类；

(2)重均分子量100以上的乙抱亚胺聚合物或其衍生物；

(3)含有选自由下述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)组成的组中的至少一种单体成分的聚合物：

通式(Ⅰ)～(Ⅳ)中，R₁～R₅分别独立地表示氢原子或1价的有机基团，X表示2价的有机基团。

2.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，含有壳聚糖，该壳聚糖在对包含壳聚糖0.5％及醋酸0.5％的水溶液在20℃下使用B型粘度计测定的粘度为1～2000mPa·s。

3.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，含有壳聚糖，该壳聚糖在对包含壳聚糖0.5％及醋酸0.5％的水溶液在20℃下使用B型粘度计测定的粘度为2～1000mPa·s。

4.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，脱乙酰度为50％以上。

5.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，脱乙酰度为70％以上。

6.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，含有壳聚糖衍生物，所述壳聚糖衍生物选自由壳聚糖吡咯烷酮羧酸盐、阳离子化壳聚糖、羟丙基壳聚糖、壳聚糖乳酸盐、甘油基化壳聚糖、乙二醇壳聚糖、羧甲基壳聚糖(CM-壳聚糖)、和羧甲基壳聚糖琥珀酰胺组成的组。

7.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，含有使乙抱亚胺聚合物的氨基与选自醛类、酮类、卤代烷、异氰酸酯类、硫代异氰酸酯类、双键、环氧化合物、氨腈类、胍类、尿素、羧酸、酸酐、和酰卤组成的组中的一种以上进行反应而得的乙抱亚胺聚合物衍生物。

8.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)中的X表示的二价有机基团选自由碳原子数1～6的亚烷基和亚苯基组成的组。

9.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)中的X表示的二价有机基团为碳原子数1～3的亚烷基。

10.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，含有选自所述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)组成的组中的至少一种单体成分的聚合物选自下述物质组成的组：仅使所述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)的单体成分聚合而成的聚合物(均聚物)；所述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)的单体成分的共聚物；所述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)的单体成分和(Ⅰ)～(Ⅳ)以外的单体成分的共聚物。

11.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，含有选自所述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)组成的组中的至少一种单体成分的聚合物，是所述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)的单体成分和非离子性单体成分或阴离子性单体成分的共聚物。

12.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述4价金属氢氧化物粒子的平均粒径为1nm～400nm。

13.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，研磨剂的pH值为3.0～7.0。

14.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述4价金属氢氧化物粒子的含有量相对于100重量份的研磨剂为0.001重量份～5重量份。

15.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述4价金属氢氧化物粒子在研磨剂中的ζ电位为+10mV以上。

16.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述阳离子性的聚合物和所述阳离子性的多糖类的合计含有量相对于100重量份的研磨剂为0.0001重量份以上。