[发明专利]一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法

权利要求书

1.一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于，按以下步骤进行：

（1）在红壤强度侵蚀坡面上沿各等高线分别挖水平沟组，所述水平沟组包括若干条水平沟，所述水平沟的横断面呈梯形；

（2）在同一水平沟组内相邻的两条水平沟之间挖种植穴，所述种植穴的横截面呈梯形；

（3）在水平沟内种植灌木和草本，在种植穴内种草；

（4）在水平沟和种植穴临近坡面外侧处开挖浅沟，并在同一水平沟组内开挖连通水平沟和种植穴的浅沟，使同一水平沟组内的浅沟相连通，然后在浅沟内均匀撒播水土保持草籽，形成水平草带链；

（5）等一年之后强度侵蚀坡地环境改善后，在水平沟正中央和种植穴内再种植乔木。

2.根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于：所述水平沟的梯形横断面的沟顶开口宽为55cm、沟底宽为20cm、沟深为40cm、沟长为4m，所述水平沟外侧斜面坡度为75°，其内侧斜面坡度为60°，开挖水平沟时的表土与底土分开堆放，底土用于外侧斜坡作埂，表土用于种植植物回填、覆土。

3.根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于：所述相邻两水平沟组中的相邻三条水平沟呈品字形排列，所述同一水平沟组内相邻水平沟水平间距为2m，相邻水平沟组的上下行距为2m，水平沟的条沟密度为650条/ hm²。

4.根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于：所述种植穴的穴顶直径为50cm，穴底直径为30cm，穴深为40cm。

5.根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于：在水平沟内种植灌木和草本、以及一年后在水平沟和种植穴内种植乔木苗时，在种植前要下好基肥，所述基肥采用生物有机肥，并保证每条水平沟沟内至少施生物有机肥1.5kg，每个种植穴内至少施生物有机肥0.25kg，将生物有机肥均匀撒施于水平沟和种植穴底部，然后用开挖水平沟和种植穴时的表土覆盖，覆盖深度为水平沟或种植穴深度的2/3，将土和生物有机肥充分拌匀。

6.根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于：在水平沟内种植灌木和乔木苗时，苗木截杆高20～30cm后定植，栽植深度比原圃地根颈深3～5cm，然后踩实，水平沟正中央第一年种草，第二年改种一株乔木，在乔木左右各种植三株灌木，灌木株距0.5m；种植穴内第一年种草，第二年改种一株乔木，每1hm²种植乔木1300株，灌木3900株，所述灌木和乔木以优良乡土水土保持树种为主。

7.根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于：所述浅沟的沟深为至少5cm，所述的水土保持草籽为宽叶雀稗种籽60kg/ hm²，或为百喜草种籽105kg/hm²，将草籽拌生物有机肥或稻田土后均匀撒在浅沟内。