[发明专利]光学玻璃、玻璃坯、光学元件、光学元件坯体及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410408995.5 申请日: 2009-01-22
公开(公告)号: CN104250063A 公开(公告)日: 2014-12-31
发明(设计)人: 邹学禄;金山雄之进;根岸智明 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: C03C3/068 分类号: C03C3/068;C03B11/00;G02B1/00
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 袁波;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学玻璃 玻璃 光学 元件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学玻璃,其包含,以摩尔%计,

0.1至40%的SiO2

10至50%的B2O3

总计0至10%的Li2O、Na2O和K2O,

总计0至10%的MgO、CaO、SrO和BaO,

0.5至22%的ZnO,

5至50%的La2O3

0.1至25%的Gd2O3

0.1至20%的Y2O3

0至20%的Yb2O3

0至25%的ZrO2

0至25%的TiO2

0至20%的Nb2O5

0至7%的Ta2O5

大于0.1%但不大于20%的WO3

0至小于3%的GeO2

0至10%的Bi2O3,和

0至10%的Al2O3

SiO2的含量与B2O3的含量的质量比SiO2/B2O3为0.57或更大至1或更小,

所述光学玻璃具有1.86至1.95的折射率nd并且具有(2.36-nd)/0.014或更高但小于38的阿贝数vd。

2.如权利要求1所述的光学玻璃,其中,其具有640℃或更高的玻璃化转变温度。

3.如权利要求1所述的光学玻璃,其中,其具有660℃或更高的玻璃化转变温度。

4.如权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃,其中,SiO2含量的范围为10至40%。

5.如权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃,其中,ZrO2含量的范围为2至25%。

6.如权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃,其中,TiO2含量的范围为3至25%。

7.如权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃,其中,SiO2含量的范围为10至40%,ZrO2含量的范围为2至25%,TiO2含量的范围为3至25%。

8.一种压制成型用玻璃坯,其由权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃形成。

9.一种光学元件,其由权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃形成。

10.一种用于生产光学元件坯体的方法,所述光学元件坯体通过研磨、抛光形成光学元件,

所述方法包括将权利要求8所述的压制成型用玻璃坯加热使其软化,并对其进行压制成型。

11.一种用于生产光学元件坯体的方法,所述光学元件坯体通过研磨、抛光形成光学元件,

所述方法包括使玻璃原料熔融并对获得的熔融玻璃进行压制成型,从而制作由权利要求1所述的光学玻璃形成的光学玻璃坯体。

12.一种光学元件的生产方法,所述方法包括通过权利要求10或11所述的方法来制作光学元件坯体,对所述光学元件坯体进行研磨、抛光。

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