[发明专利]光学玻璃、玻璃坯、光学元件、光学元件坯体及其制造方法在审
申请号: | 201410408995.5 | 申请日: | 2009-01-22 |
公开(公告)号: | CN104250063A | 公开(公告)日: | 2014-12-31 |
发明(设计)人: | 邹学禄;金山雄之进;根岸智明 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | C03C3/068 | 分类号: | C03C3/068;C03B11/00;G02B1/00 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 袁波;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学玻璃 玻璃 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学玻璃,其包含,以摩尔%计,
0.1至40%的SiO2,
10至50%的B2O3,
总计0至10%的Li2O、Na2O和K2O,
总计0至10%的MgO、CaO、SrO和BaO,
0.5至22%的ZnO,
5至50%的La2O3,
0.1至25%的Gd2O3,
0.1至20%的Y2O3,
0至20%的Yb2O3,
0至25%的ZrO2,
0至25%的TiO2,
0至20%的Nb2O5,
0至7%的Ta2O5,
大于0.1%但不大于20%的WO3,
0至小于3%的GeO2,
0至10%的Bi2O3,和
0至10%的Al2O3,
SiO2的含量与B2O3的含量的质量比SiO2/B2O3为0.57或更大至1或更小,
所述光学玻璃具有1.86至1.95的折射率nd并且具有(2.36-nd)/0.014或更高但小于38的阿贝数vd。
2.如权利要求1所述的光学玻璃,其中,其具有640℃或更高的玻璃化转变温度。
3.如权利要求1所述的光学玻璃,其中,其具有660℃或更高的玻璃化转变温度。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃,其中,SiO2含量的范围为10至40%。
5.如权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃,其中,ZrO2含量的范围为2至25%。
6.如权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃,其中,TiO2含量的范围为3至25%。
7.如权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃,其中,SiO2含量的范围为10至40%,ZrO2含量的范围为2至25%,TiO2含量的范围为3至25%。
8.一种压制成型用玻璃坯,其由权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃形成。
9.一种光学元件,其由权利要求1至3中任意一项所述的光学玻璃形成。
10.一种用于生产光学元件坯体的方法,所述光学元件坯体通过研磨、抛光形成光学元件,
所述方法包括将权利要求8所述的压制成型用玻璃坯加热使其软化,并对其进行压制成型。
11.一种用于生产光学元件坯体的方法,所述光学元件坯体通过研磨、抛光形成光学元件,
所述方法包括使玻璃原料熔融并对获得的熔融玻璃进行压制成型,从而制作由权利要求1所述的光学玻璃形成的光学玻璃坯体。
12.一种光学元件的生产方法,所述方法包括通过权利要求10或11所述的方法来制作光学元件坯体,对所述光学元件坯体进行研磨、抛光。
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