[发明专利]用于形成银或银合金的布线和反射层的蚀刻剂组合物

说明书

本发明公开了一种用于蚀刻单层膜或多层膜的蚀刻剂组合物，所述单层膜或多层膜包含银或银合金且用于薄膜晶体管的金属布线或反射层，所述蚀刻剂组合物包括：基于组合物的总重量，55％至65％重量的磷酸；2％至10％重量的硝酸；3％至10％重量的乙酸；0.1％至5％重量的钾盐；以及余量的水。

本申请要求2013年8月27日递交的韩国专利申请号KR 10-2013-0101900和2013年9月24日递交的韩国专利申请号KR 10-2013-0113044的权利，它们通过全文引用的方式并入本申请中。

技术领域

本发明涉及膜蚀刻剂组合物，用于形成银或银合金的布线和反射层。

背景技术

通常，背光液晶显示器包括阵列基板、彩色滤光片基板和液晶面板，其中，液晶面板插入在两个基板之间并且由液晶层组成。由于液晶面板是非发光元件，所以背光单元被定位在阵列基板的后面。根据液晶分子的排列状态，控制来自背光的照射光的渗透量。

为了将信号传送至液晶层，在阵列基板上形成有布线。阵列基板的布线包含栅极布线和数据布线。

这些布线可形成为金属的单层或金属合金的单层，且可形成为多层，用来补偿每一种金属或金属合金的缺点并且得到所需的物理性质。

铝常用于形成布线，但是纯铝在耐化学品腐蚀方面较弱，并且在后续工艺中可能发生布线的缺陷问题。因此，为了补偿这一点，使用铝合金或使用在铝或铝合金上层压有另一金属层(例如，诸如钼、铬、钨、锡等的金属层)的多层。

然而，目前对高分辨率和大尺寸液晶显示器的需求增加，而且为了实现该目的，已经对利用电阻比铝低的金属膜进行了持续研究。从而，开发了利用银(Ag)形成布线的技术，与铝(比电阻：2.65μΩ·cm)相比，银(Ag)具有较低的电阻(比电阻：1.59μΩ·cm)。

同时，透射型液晶显示器具有这样的不足：在强烈的外部光的条件下，诸如户外，屏幕的可见度非常差，并且由于使用背光，而难以实现低能耗，因此移动性也受到了限制。

为了克服上述不足，已经积极地开发了利用外部光源而不使用背光源的反射型液晶显示器，以及利用外部光源和背光源从而甚至在户外也具有良好可见度的半透射型液晶显示器。

在现有技术中通常使用铝金属膜(反射率：83.3％)，但是为了得到更高的反射率而引入了银或银合金(反射率：96.4％)。

为了形成这些布线和反射层，需要通过蚀刻产生图案。蚀刻包括干蚀刻和湿蚀刻，并且湿蚀刻由于能够蚀刻均匀并且具有较高的生产率而被经常使用。

在现有技术中，对于用于银或银合金的蚀刻剂组合物的实例，本发明的申请人的韩国专利公开号10-0440344中公开了用于湿蚀刻的蚀刻剂组合物，该蚀刻剂组合物包括：Fe³⁺盐化合物、硝酸、乙酸、腐蚀抑制剂和水。

然而，在韩国专利公开号10-0440344中公开的蚀刻剂组合物具有这样的不足：根据Fe³⁺盐化合物的浓度，薄片的可用数目受到了极大的限制，其仅能够用于反射层，而不能用于金属膜(为多层透明电极(氧化铟锡或氧化铟锌))或其它金属膜的批量蚀刻。

此外，对于适用于各种银或银合金的单层膜或多层膜的蚀刻剂组合物，在本发明的申请人的韩国专利申请公开号10-2006-0069601A中公开了一种蚀刻剂组合物，该蚀刻剂组合物包括磷酸、硝酸、乙酸和蚀刻特性增强剂。

然而，其根本没有考虑CD偏移(skew)，并且因此具有的不足是：当蚀刻剂组合物被应用至各种银或银合金的单层膜或多层膜时，由于蚀刻具有0.5μm或大于0.5μm的CD偏移，因此不能使用精细的图案。

在该方面，本发明的发明人开发了蚀刻剂组合物来维持0.3μm或低于0.3μm的侧蚀刻，并且并不产生Ag残渣，从而完成了本发明。