[发明专利]一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法有效

专利信息
申请号: 201410412719.6 申请日: 2014-08-20
公开(公告)号: CN104217916B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 庹文平;左志刚 申请(专利权)人: 上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 刘松
地址: 201201 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 刻蚀 装置 系统 终点 探测 方法
【权利要求书】:

1.一种刻蚀装置,包括刻蚀腔,所述刻蚀腔包括终点探测窗口;其中:

所述终点探测窗口包括探测窗、终点探测窗口保护结构以及终点探测窗口保护结构驱动装置;

所述终点探测窗口保护结构,位于所述探测窗内侧,用于到达刻蚀终点时遮挡所述探测窗;

所述终点探测窗口保护结构驱动装置,与所述终点探测窗口保护结构连接,用于当刻蚀终点到达时,驱动所述终点探测窗口保护结构关闭,当刻蚀过程结束后,驱动所述终点探测窗口保护结构打开。

2.如权利要求1所述的刻蚀装置,其特征在于,还包括终点探测窗口保护结构手动按钮,位于所述终点探测窗口保护结构驱动装置上,用于手动控制所述终点探测窗口保护结构的打开或者关闭。

3.如权利要求1或2所述的刻蚀装置,其特征在于,还包括终点探测窗口保护结构位置检测装置,用于检测所述终点探测窗口保护结构是否完全遮挡所述探测窗。

4.如权利要求1所述的刻蚀装置,其特征在于,还包括电荷耦合元件支架,位于所述探测窗中除所述探测窗内侧以外的其他侧面。

5.如权利要求4所述的刻蚀装置,其特征在于,所述终点探测窗口保护结构位于所述电荷耦合元件支架内侧,且所述终点探测窗口保护结构驱动装置固定在所述电荷耦合元件支架外侧。

6.如权利要求4所述的刻蚀装置,其特征在于,所述终点探测窗口保护结构与所述终点探测窗口保护结构驱动装置之间还包括驱动杆,所述驱动杆穿过所述电荷耦合元件支架中固定所述终点探测窗口保护结构驱动装置的底板,所述驱动杆用于在所述终点探测窗口保护结构驱动装置的作用下驱动所述终点探测窗口保护结构移动以完全遮挡或者不遮挡所述探测窗。

7.如权利要求6所述的刻蚀装置,其特征在于,所述终点探测窗口保护结构驱动装置与所述电荷耦合元件支架之间还包括密封圈,且所述密封圈环绕所述驱动杆的四周,用于保证所述刻蚀腔为密封状态。

8.一种刻蚀系统,包括如权利要求1-7任一项所述的刻蚀装置,以及刻蚀终点探测系统,其中:

所述刻蚀终点探测系统包括信号处理装置,以及电荷耦合元件;

所述电荷耦合元件,位于所述刻蚀装置中的电荷耦合元件支架上,用于将所述刻蚀装置在刻蚀过程中产生的光信号转换为模拟电信号;

所述信号处理装置,与所述电荷耦合元件连接,用于将所述模拟电信号转换为数字电信号。

9.如权利要求8所述的刻蚀系统,其特征在于,所述刻蚀终点探测系统还包括刻蚀终点检测设备,与所述信号处理装置连接,用于实时探测所述信号处理装置发送的数字电信号的变化量,并根据所述数字电信号的变化量,检测是否到达刻蚀终点。

10.如权利要求9所述的刻蚀系统,其特征在于,所述刻蚀装置中的终点探测窗口保护结构驱动装置与所述刻蚀终点检测设备电连接,接收所述刻蚀终点检测设备发送的刻蚀终点到达信号。

11.一种刻蚀终点探测方法,用于探测刻蚀装置的刻蚀终点,所述刻蚀装置包括设置有终点探测窗口的刻蚀腔,且所述终点探测窗口包括探测窗、终点探测窗口保护结构以及终点探测窗口保护结构驱动装置,所述方法包括:

从所述终点探测窗口探测所述刻蚀腔内刻蚀过程中所发射的光,并转换为电信号;

根据所述电信号判断是否到达刻蚀终点;

若达到刻蚀终点,所述终点探测窗口中的终点探测窗口保护结构驱动装置驱动所述终点探测窗口中的终点探测窗口保护结构遮挡所述探测窗。

12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,所述刻蚀装置还包括终点探测窗口保护结构手动按钮,位于所述终点探测窗口保护结构驱动装置上;

当所述终点探测窗口保护结构手动按钮接收到用户发送的关闭指令时,所述终点探测窗口保护结构驱动装置根据所述关闭指令,驱动所述终点探测窗口保护结构遮挡所述探测窗。

13.如权利要求12所述的方法,其特征在于,所述刻蚀装置还包括终点探测窗口保护结构位置检测装置;

当所述终点探测窗口保护结构位置检测装置检测到所述终点探测窗口保护结构到达指定位置时,指示所述终点探测窗口保护结构驱动装置停止关闭所述终点探测窗口保护结构。

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