[发明专利]一种晶片吸附装置在审
申请号: | 201410413008.0 | 申请日: | 2014-08-20 |
公开(公告)号: | CN105374733A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 李晓明 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶片 吸附 装置 | ||
1.一种晶片吸附装置,其特征在于:包括吸盘(1)、密封圈(2) 及固定环(3),其中吸盘(1)与晶片(4)的接触面上设有多圈同心 的环形槽(7),所述密封圈(2)通过所述固定环(3)安装在吸盘(1) 上,所述环形槽(7)位于该密封圈(2)内;所述晶片(4)在吸盘 (1)未接通真空状态置于密封圈(2)上,该密封圈(2)的上部边 缘在吸盘(1)接通真空状态通过所述晶片(4)压迫弯折、形成与晶 片(4)完整的全周密封区域,所述晶片(4)在吸盘(1)接通真空 状态同时与被压迫的所述密封圈(2)上部边缘及位于密封圈(2)内 的所述吸盘(1)上的环形槽(7)密封接触。
2.按权利要求1所述的晶片吸附装置,其特征在于:所述密封 圈(2)的底部为圆环形、中部为圆柱形、上部为圆锥形,该圆锥形 的轴向截面为倒置的“八”字形,所述圆锥形的上表面高于所述吸盘 (1)与晶片(4)的接触面。
3.按权利要求2所述的晶片吸附装置,其特征在于:所述密封 圈(2)上部的圆锥形在吸盘(1)接通真空状态被所述晶片(4)压 迫向下弯折成与所述晶片(4)密封接触的平面。
4.按权利要求2所述的晶片吸附装置,其特征在于:所述密封 圈(2)位于固定环(3)与吸盘(1)之间,该固定环(3)压在所述 密封圈(2)圆环形的底部。
5.按权利要求4所述的晶片吸附装置,其特征在于:所述固定 环(3)为圆环形,其上分别设有多个螺纹孔(5)及沉头孔(6),所 述螺纹孔(5)内安装有便于所述密封圈(2)与固定环(3)拆卸的 顶丝,所述沉头孔(6)内安装有连接所述吸盘(4)和固定环(3) 的螺钉。
6.按权利要求1所述的晶片吸附装置,其特征在于:所述密封 圈(2)的材料为氟橡胶。
7.按权利要求1所述的晶片吸附装置,其特征在于:所述固定 环的材料为PPS。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造