[发明专利]一种透射式脉冲压缩光栅器件及其制备方法在审
申请号: | 201410414212.4 | 申请日: | 2014-08-21 |
公开(公告)号: | CN104155709A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 李朝明;陈新荣;吴建宏;潘君骅;胡祖元;李林;刘麟跃;常增虎 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海锋 |
地址: | 215137 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 透射 脉冲 压缩 光栅 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种透射式脉冲压缩光栅器件,包括熔融石英基板,设置在所述熔融石英基板的一个光学表面上的透射式脉冲压缩光栅微结构,光栅空频范围800-2000line/mm,其特征在于:在所述熔融石英基板的另一个相对的光学表面上设有一维浮雕型高频增透光栅微结构,光栅空频范围2500-6000line/mm。
2.根据权利要求1所述的透射式脉冲压缩光栅器件,其特征在于:所述高频增透光栅的光栅空频 ,式中,λ为使用波长,为入射角。
3.权利要求1所述的透射式脉冲压缩光栅器件的制备方法,采用熔融石英基板,其特征在于,包括下列步骤:
(1)在熔融石英基板的一个表面上涂布光刻胶,利用全息记录方法,将待制备的透射式脉冲压缩光栅的图像在光刻胶上曝光,显影后制作获得脉冲压缩光栅的光刻胶掩模;
(2) 用离子刻蚀方法将脉冲压缩光栅的光刻胶掩模的微结构转移到熔融石英基板上,清除剩余的光刻胶掩模,获得具有脉冲压缩光栅微结构的熔融石英基板;
(3)在步骤(2)获得的具有脉冲压缩光栅微结构的熔融石英基板的另一个表面上涂布光刻胶,利用全息记录方法,制作高频增透光栅微结构的光刻胶掩模;
(4) 用离子刻蚀方法将高频增透光栅的光刻胶掩模微结构转移到熔石英基板上,清除剩余光刻胶掩模,获得所需的透射式脉冲压缩光栅器件。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述脉冲压缩光栅微结构根据使用波长范围和光束在光栅表面入射角度,利用电磁场理论设计光栅周期、槽深和占空比,实现激光光束一级透射衍射色散;所述高频增透光栅微结构根据使用波长范围和光束在光栅表面入射角度设计光栅周期、槽深和占空比,实现零级透射衍射光束增透。
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