[发明专利]微机械结构元件和用于制造微机械结构元件的方法有效
申请号: | 201410418243.7 | 申请日: | 2014-08-22 |
公开(公告)号: | CN104422436B | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | J·弗莱;J·赖因穆特 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | G01C19/5769 | 分类号: | G01C19/5769;G01C19/5733;B81B7/02;B81C1/00;B81B3/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 侯鸣慧 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微机 结构 元件 用于 制造 方法 | ||
1.微机械结构元件(1),具有一具有主延伸平面(100)的衬底(2),一沿着第一平面(10')扁平地延伸的第一电极(11),一沿着第二平面(20')扁平地延伸的第二电极(21)和一沿着第三平面(30')扁平地延伸的第三电极(31),其中,所述第一、第二和第三平面(10'、20'、30')基本上平行于所述主延伸平面(100)定向并且沿着一与所述主延伸平面(100)基本上垂直的法线方向(103)间隔地相叠布置,其中,所述微机械结构元件(1)具有一能偏移的质量元件(40),其中,所述质量元件(40)不仅能够基本上平行于也能够基本上垂直于所述主延伸平面(100)偏移,其中,所述第二电极(21)与所述质量元件(40)抗相对运动地连接,其中,所述第二电极(21)在所述质量元件(40)的静止位置中沿着一与所述法线方向(103)基本上平行的投影方向具有一与所述第一电极(11)的第一重叠区域(23),并且沿着一与所述投影方向平行的另外的投影方向具有一与所述第三电极(31)的第二重叠区域(24),其特征在于,所述质量元件(40)沿着所述第三平面(30')扁平地延伸,其中,所述质量元件(40)具有一沿着所述第三平面(30')扁平地延伸的并且平行于所述法线方向(103)完全穿过所述质量元件(40)延伸的凹部(41),其中,所述第三电极(31)至少部分地布置在所述凹部(41)中。
2.根据权利要求1所述的微机械结构元件(1),其特征在于,所述第二电极(21)平行于所述法线方向(103)具有一与所述第一电极(11)的第一间距(25)以及一与所述第三电极(31)的第二间距(26),其中,所述第一间距(25)和所述第二间距(26)基本上大小相等。
3.根据前述权利要求中任一项所述的微机械结构元件(1),其特征在于,所述第二电极(21)是无承载地构造的。
4.根据权利要求1或2所述的微机械结构元件(1),其特征在于,所述第一重叠区域(23)和所述第二重叠区域(24)基本上大小相等,和/或沿着一平行于所述法线方向(103)的投影方向并排布置,和/或关于与所述第二平面(20')基本上平行地延伸的对称轴线(102')镜像对称。
5.根据权利要求1或2所述的微机械结构元件(1),其特征在于,一施加在所述衬底(2)上的第一层(10)包括所述第一电极(11),并且一施加在所述第一层(10)上的第二层(20)包括所述第二电极(21),其中,一施加在所述第二层(20)上的第三层(30)包括所述第三电极(31),其中,所述质量元件(40)、所述凹部(41)和所述第三电极(31)至少部分地或完全地由相同的第三层(30)形成。
6.根据权利要求1或2所述的微机械结构元件(1),其特征在于,所述第一电极(11)和所述第三电极(31)位置固定地与所述衬底(2)连接,其中,所述凹部(41)具有一主延伸方向(42),其中,所述第三电极(31)沿着一与所述主延伸方向(42)平行的电极方向(32)在所述凹部(41)的内部纵长地延伸。
7.根据权利要求6所述的微机械结构元件(1),其特征在于,所述微机械结构元件(1)具有一另外的第一电极(11')和一另外的第三电极(31'),其中,所述第一电极(11)和所述另外的第一电极(11')沿着一与所述法线方向(103)平行的投影方向并排地并且相互电绝缘地布置,其中,所述第三电极(31)和所述另外的第三电极(31')沿着一与所述法线方向(103)平行的投影方向并排地并且相互电绝缘地布置,其中,所述另外的第三电极(31')沿着一与所述电极方向(32)基本上平行的另外的电极方向(32')在所述凹部(41)的内部纵长地延伸。
8.根据权利要求1或2所述的微机械结构元件(1),其特征在于,所述微机械结构元件(1)具有一沿着所述第二平面(20')扁平地延伸的探测电极(22),其中,所述探测电极(22)配置用于电容地探测所述质量元件(40)沿着所述法线方向(103)的偏移,其中,所述第一电极(11)沿着一与所述法线方向(103)平行的投影方向至少部分地布置在所述探测电极(22)和所述衬底(2)之间。
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