[发明专利]光扫描装置以及光扫描单元有效

专利信息
申请号: 201410419597.3 申请日: 2014-08-22
公开(公告)号: CN104423035B 公开(公告)日: 2018-05-29
发明(设计)人: 丸山佑纪;阿部美里 申请(专利权)人: 三美电机株式会社
主分类号: G02B26/08 分类号: G02B26/08;G02B5/08;G02B1/115;G02B1/14
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光扫描装置 反射镜 金属膜 光扫描单元 可见光 多层膜 反射率 反射膜 膜结构 入射角 摆动 基板 入射 扫描
【说明书】:

本发明提供一种具有反射镜的光扫描装置,该反射镜上形成有考虑了反射率的入射角度依赖性的膜结构的多层膜。本光扫描装置是使反射镜摆动而扫描入射的可见光的光扫描装置,上述反射镜具有形成于基板上的金属膜、和层叠于上述金属膜上的增强反射膜。

技术领域

本发明涉及具有反射镜的光扫描装置以及光扫描单元。

背景技术

以往,在以400~700nm的可见光区域激光为光源的投影器等所使用的不可动的反射镜中,在石英、玻璃的基体材料上形成金属膜,在该金属膜上形成由低折射率膜和高折射率膜构成的电介质多层膜以实现高反射率。例如,例示了如下反射镜,即、在基板上具有九层以上的多层膜,该多层膜由金属膜、以及将低折射率膜和高折射率膜交替地层叠于金属膜上而成的电介质多层膜构成(例如,参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2006-220903号公报

然而,在上述那样的不可动的反射镜中,入射光向反射镜的入射角度总是为一定角度,因此未研究考虑到反射率的入射角度依赖性的膜结构。

另一方面,光扫描装置所使用的反射镜根据与光源的位置关系而以各种各样的入射角度使用(例如,0°~50°左右),并且反射镜自身摆动(例如,±10°左右),因此即使在入射角度变动的情况下,也需要成能够确保规定值以上的高反射率那样的膜结构。

而且,由于不可动的反射镜能够使用比较厚的基板(数mm左右),因此即使形成于基板上的膜的总厚度较厚,基板自身也不会变形。因此,即使层叠的膜的数量增加而总厚度变厚也不会成为大的弊病,从而也未进行减少层叠的膜的数量而使总厚度变薄的研究。

另一方面,由于光扫描装置所使用的反射镜摆动,因此需要使用比较薄的基板(数10μ~数100μm左右)。在使用比较薄的基板的情况下,若增加层叠于基板上的膜的数量而总厚度变厚,则有可能产生基板自身变形,因此优选减少层叠的膜的数量而使总厚度变薄。

发明内容

本发明是鉴于上述的情形而提出的技术方案,课题是提供一种具有反射镜的光扫描装置,该反射镜上形成有考虑了反射率的入射角度依赖性的膜结构的多层膜。

用于解决课题的方案

本光扫描装置200是使反射镜110而扫描入射的可见光的光扫描装置200,其特征在于,上述反射镜110具有形成于基板111上的金属膜112、以及层叠于上述金属膜112上的增强反射膜113、114。

此外,上述的参照符号是为了容易理解而标注的符号,只不过一例而已,并不限定于图示的方式。

发明的效果如下。

根据公开的技术,能够提供一种具有反射镜的光扫描装置,该反射镜上形成有考虑了反射率的入射角度依赖性的膜结构的多层膜。

附图说明

图1是例示本实施方式的光扫描装置的图。

图2是例示本实施方式的光扫描单元的图。

图3是例示反射镜的层结构的剖视图。

图4是例示实施例1的多层膜的反射率的入射角度依赖性(P偏光入射)的图。

图5是例示比较例的金属膜的反射率的入射角度依赖性(P偏光入射)的图。

图6是例示实施例1的多层膜的反射率的入射角度依赖性(S偏光入射)的图。

图7是例示比较例的金属膜的反射率的入射角度依赖性(S偏光入射)的图。

图8是比较实施例1以及比较例的平均反射率的入射角度依赖性(P偏光入射)的图。

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