[发明专利]一种防辐射的孕妇装在审
申请号: | 201410420152.7 | 申请日: | 2014-08-25 |
公开(公告)号: | CN104207367A | 公开(公告)日: | 2014-12-17 |
发明(设计)人: | 王一洲 | 申请(专利权)人: | 圣凯诺服饰有限公司 |
主分类号: | A41D1/20 | 分类号: | A41D1/20;A41D13/01 |
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地址: | 214426 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防辐射 孕妇装 | ||
技术领域
本发明涉及一种防辐射的孕妇装,属于服装技术领域。
背景技术
衣服泛指身上穿的各种衣裳服装,衣服的本意是防寒保暖,护身的介质 ;而在现代社会衣服已经逐渐演化为人体的装饰物品,更多的时候象征了一个人的生活水准和社会地位 ;同时在衣服基本功能不变的基础上,人们越来越多的注重衣物对身体的保健作用,不断的研发衣服的新材料,利用适当的工艺将不同材料的各种功效添加到衣料中,增加了衣服的功能性。
现有的生产衣服的面料一般由一种材质制成,特点也比较单一,造成面料的柔软性和吸湿等特点不可兼得,这将大大降低了穿着衣服的舒适度,同时面料的丝线机构比较简单,目前市场上急需一种既有保健功能,又柔软透气,还有抗静电的作用的面料;
并且孕妇怀孕时为了保证孩子不受到辐射,会尽量避免接触电脑等电子设备,但怀孕前期的妇女仍然要进行工作,这样对于办公室工作的妇女便会受到辐射影响,长期可能会影响孩子的生长。
发明内容
本发明的目的在于克服上述不足,提供能够避有效屏蔽辐射,保证孕妇和孩子身体健康,同时具有防水和防辐射的功能的一种防辐射的孕妇装。
本发明的目的是这样实现的:
一种防辐射的孕妇装,包括衣服本体,所述衣服本体的前片为双层结构,其内侧设置有夹层,所述夹层内设置有金属纤维细丝网,制成衣服本体的面料为一种防水防辐射面料,该防水防辐射面料包括基体以及基体表层的防水层,基体由经线和纬线相互编织而成,防水层由微多孔聚氨酯膜构成,微多孔聚氨酯膜的厚度为0.5毫米-2.5毫米,其中,经线由纳米远红外陶瓷纤维和丝光棉纤维混纺编织而成,经线中远红外陶瓷纤维所占比例为30%-45%,丝光棉纤维所占比例为55%-70% ;纬线由竹纤维和巴百纱纤维混纺编织而成,纬线中竹纤维所占比例为25%-35%,巴百纱纤维所占比例为65%-75%。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
本发明一种防辐射的孕妇装,它通过在衣服本体前片的内侧设置有夹层,并在夹层内设置金属纤维细丝网,该金属纤维细丝网构成的环路可以产生感生电流,由感生电流产生反向电磁场对电磁波进行屏蔽,从而可以反射电磁波,起到有效屏蔽辐射,以及保证孕妇和孩子身体健康的功能;同时衣服本体为防水防辐射面料,采用防辐射纤维与透气轻薄面料纤维混纺编织成防辐射面料层,不但具有防辐射的功能,同时使面料穿着舒适,可以除去身体发出的湿气,保持人体的干爽,表层的防水层可以使用服装面料具有防水效果,即便泼到水也不会潮湿,为人们在外出行提供了方便。
附图说明
图1为本发明一种防辐射的孕妇装的结构示意图。
图2为图1中衣服本体前片内侧的层状结构示意图。
图3为图2中夹层内金属纤维细丝网的结构示意图。
图4为本发明衣服本体的面料的结构示意图。
其中:衣服本体1、基体1.1、防水层1.2、夹层2、金属纤维细丝网3。
具体实施方式
参见图1至图4,本发明涉及的一种防辐射的孕妇装,包括衣服本体1,所述衣服本体1的前片为双层结构,其内侧设置有夹层2,所述夹层2内设置有金属纤维细丝网3,该金属纤维细丝网3构成的环路可以产生感生电流,由感生电流产生反向电磁场对电磁波进行屏蔽,从而可以反射电磁波,起到有效屏蔽辐射,以及保证孕妇和孩子身体健康的功能。
制成衣服本体1的面料为一种防水防辐射面料,该防水防辐射面料包括基体1.1以及基体1.1表层的防水层1.2,基体1.1由经线和纬线相互编织而成,防水层1.2由微多孔聚氨酯膜构成,微多孔聚氨酯膜的厚度为0.5毫米-2.5毫米,其中,经线由纳米远红外陶瓷纤维和丝光棉纤维混纺编织而成,经线中远红外陶瓷纤维所占比例为30%-45%,丝光棉纤维所占比例为55%-70%;纬线由竹纤维和巴百纱纤维混纺编织而成,纬线中竹纤维所占比例为25%-35%,巴百纱纤维所占比例为65%-75%。
本发明所述为一种防水防辐射面料,采用防辐射纤维与透气轻薄面料纤维混纺编织成防辐射面料层,不但具有防辐射的功能,同时使面料穿着舒适,可以除去身体发出的湿气,保持人体的干爽,表层的防水层可以使用服装面料具有防水效果,即便泼到水也不会潮湿,为人们在外出行提供了方便。
以上所述仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内,可不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
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