[发明专利]纳米氧化亚铜基3D打印用半导体材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410424204.8 申请日: 2014-08-26
公开(公告)号: CN104194266A 公开(公告)日: 2014-12-10
发明(设计)人: 蓝碧健 申请(专利权)人: 太仓碧奇新材料研发有限公司
主分类号: C08L63/00 分类号: C08L63/00;C08L29/04;C08K3/22;B29C67/24
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 215400 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 纳米 氧化亚铜 打印 半导体材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种纳米氧化亚铜基3D打印用半导体材料,其特征在于:由下列重量比的原料组成:

纳米氧化亚铜粉                 40~50%,

环氧树脂                        10~20%,

三乙醇胺                        10~20%,

3―氨丙基三甲氧基硅烷           10~20%,

聚乙烯醇                          5~10%,

丙酮                            10~20%。

2.权利要求1所述纳米氧化亚铜基3D打印用半导体材料,其制备方法包括以下步骤: 

1)将重均分子量为5~10万的聚乙烯醇粉碎成100~120目的颗粒;

2)按重量配比称取原料;

3)在氮气氛围下,将环氧树脂与丙酮混合,加入三乙醇胺,室温搅拌15分钟,再依次加入3―氨丙基三甲氧基硅烷、聚乙烯醇颗粒,室温搅拌45分钟,然后加入平均粒径为30纳米的氧化亚铜粉,加热至60~75℃,搅拌30分钟,冷却至室温,得纳米氧化亚铜基3D打印用半导体材料。

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