[发明专利]浮雕幻影釉面砖的釉及制备

权利要求书

1.一种浮雕幻影釉面砖的釉，其特征在于包括有：

底釉，其组分的重量份配比为：熔块b38～40份、硅酸锆6～8份、高岭土10～12份、煅烧高岭土6～8份、钾长石粉9～11份、烧滑石7～9份、氧化铝粉6～8份、石英粉9～11份、羧甲基纤维素0.05～0.1份、三聚磷酸钠0.4～0.6份以及水37～40份；

面釉，其组分的重量份配比为：熔块a45～55份、熔块b25～35份、熔块c10～20份、高岭土2～4份、羧甲基纤维素0.04～0.06份、三聚磷酸钠0.2～0.4份以及水37～40份；以及

浮雕幻影印花釉，其组分的重量份配比为：基础釉粉100份、氧化锌1～2份、氧化锡0.4～0.6份、氧化铈0.5～1份以及陶瓷胶辊印油140～160份；其中

所述熔块a的化学成分的重量百分比为：SiO₂62.5～64.5％、Al₂O₃5.5～7.5％、CaO8.5～9.5％、MgO1～3％、K₂O1～3％、Na₂O0.3～0.5％、ZnO8.5～10.5％、ZrO₂6.5～8.5％、B₂O₃2～4％；

所述熔块b的化学成分的重量百分比为：SiO₂55～57％、Al₂O₃4～6％、CaO10～11％、MgO1～2％、K₂O1.5～2.5％、Na₂O0.1～0.3％、ZnO11～12％、ZrO₂9～11％、B₂O₃5～6％；

所述熔块c的化学成分的重量百分比为：SiO₂57.5～58.5％、Al₂O₃8～9％、CaO11.5～12.5％、K₂O4～5％、Na₂O0.1～0.3％、ZnO12.5～13.5％、ZrO₂1.5～2.5％、PbO0.4～0.6％；

所述基础釉粉的组分的重量份配比为：熔块c100份、高岭土2～4份、羧甲基纤维素0.06～0.08份、三聚磷酸钠0.2～0.4份、水37～40份。

2.根据权利要求1所述的浮雕幻影釉面砖的釉的制备，其特征在于包括以下步骤：

熔块a的配制：将石英粉、钾钠长石粉、滑石粉、碳酸钙、碳酸钾、氧化锌、锆英粉以及硼酸，进行配料混合，在熔块炉内熔制，熔制温度1520℃～1540℃，水淬成熔块颗粒烘干即得；

熔块b的配制：将石英粉、钾钠长石粉、滑石粉、碳酸钙、碳酸钾、氧化锌、锆英粉、硼砂以及硼酸，进行配料混合，在熔块炉内熔制，熔制温度1520℃～1540℃，水淬成熔块颗粒烘干即得；

熔块c的配制：将石英粉、钾钠长石粉、氧化铝粉、碳酸钙、碳酸钾、氧化锌、硅酸锆以及红丹粉，进行配料混合，在熔块炉内熔制，熔制温度1520℃～1540℃，水淬成熔块颗粒烘干即得；

底釉的配制：将底釉的各组分混合磨成釉浆，325目过筛除铁即得；

面釉的配制：将面釉的各组分混合磨成釉浆，325目过筛除铁即得；

基础釉粉的配制：将基础釉粉的各组分混合磨成釉浆，325目过筛除铁烘干打粉即得；

浮雕幻影印花釉的配制：将浮雕幻影印花釉的各组分混合磨成釉浆，325目过筛除铁即得。

3.根据权利要求1或2所述的浮雕幻影釉面砖的制备，其特征在于包括以下步骤：将砖坯先施上所述底釉，施釉量为0.7kg/㎡，所述的施釉量为含水釉浆重，待底釉初干时再施所述面釉，施釉量为1.18kg/㎡，所述的施釉量为含水釉浆重，然后经过洗边，通过胶印将所述浮雕幻影印花釉印在经过洗好边的砖坯的面釉上，再经过喷墨印花机进行喷墨印花，进入辊道窑釉烧，烧成温度为1080℃～1130℃，烧成时间为45～65分钟，经过磨边、烘干，即制成成品。

4.根据权利要求3所述的浮雕幻影釉面砖的制备，其特征在于：所述砖坯为抛光废渣制造的素坯体。

5.根据权利要求3所述的浮雕幻影釉面砖的制备，其特征在于：所述胶印的胶辊的网点孔径为1.0～1.5mm，深度为0.8～1.2mm。

6.根据权利要求3所述的浮雕幻影釉面砖的制备，其特征在于：所述陶瓷胶辊印油的参数为：比重1.06～1.08％，粘度500～600mPa.s，流速22～26S。