[发明专利]CF基板的对组标记的制作方法

权利要求书

1.一种CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供CF基板(1)；

步骤2、在所述CF基板(1)上形成有机材料层(2)的同时，于CF基板(1)上有效显示区的外围区域形成数个与所述有机材料层(2)同样材质的对组标记(3)，用于与TFT基板对组时对位；

步骤3、对所述对组标记(3)进行黑化处理，使得该对组标记(3)在CCD探测时的识别度提高。

2.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述CF基板(1)为BOA架构液晶显示面板中的CF基板。

3.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述步骤2中有机材料层(2)为CF基板(1)上的任意有机结构层。

4.如权利要求3所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述步骤2中有机材料层(2)为所述CF基板(1)上所形成的第一层有机材料层。

5.如权利要求4所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述步骤2中有机材料层(2)为光阻间隔物层。

6.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述步骤3通过对应每一对组标记(3)设定一处理区域(4)的位置与尺寸，在所述处理区域(4)的范围内采用增强方式对所述对组标记(3)进行黑化处理。

7.如权利要求6所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述处理区域(4)完全覆盖所述对组标记(3)，且所述处理区域(4)的面积大于所述对组标记(3)的面积。

8.如权利要求6所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，通过由机台平台提供坐标信息，再通过光罩对所述坐标信息进行校准来最终确定所述处理区域(4)的位置与尺寸，所述处理区域(4)的尺寸由机台平台的定位精度、所述有机材料层(2)的黄光制程精度共同决定。

9.如权利要求6所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述增强方式为激光灼烧、紫外曝光、或碳化。

10.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述对组标记(3)设于所述CF基板(1)每相邻两边的相交处。