[发明专利]磁头、具备其的头万向架组件及盘装置在审

专利信息
申请号: 201410427647.2 申请日: 2014-08-27
公开(公告)号: CN105023583A 公开(公告)日: 2015-11-04
发明(设计)人: 船山知己 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/127 分类号: G11B5/127;G11B5/58
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 陈海红;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁头 具备 万向 组件 装置
【说明书】:

关联申请

本申请要求以日本专利申请2014—90457号(申请日:2014年4月24日)为基础申请的优先权。本申请通过参照该基础申请包括基础申请的全部的内容。

技术领域

该发明的实施方式涉及用于盘装置的高频辅助记录用的磁头、具备该磁头的头万向架组件及盘装置。

背景技术

近年来,用于谋求磁盘装置的高记录密度化、大容量化或者小型化,提出垂直磁记录用的磁头。在如此的磁头中,记录头具有使垂直方向磁场产生的主磁极、在该主磁极的拖尾侧夹持写间隙而配置在与磁盘之间闭合磁路的写屏蔽层和用于使磁通流过主磁极的线圈。而且,提出在主磁极与写屏蔽层间(写间隙)配置有微波振荡器的高频辅助记录用的磁记录头。

用于使微波振荡器稳定而振荡工作,必需防止在微波振荡器的驱动电流重叠串扰等的噪声。例如,提出如下方法:在连接于磁头的多条布线内,将用于在微波振荡器施加偏置电压的布线分开配置于悬臂的两侧,并对通过布线间的串扰而高频分量混入于微波振荡器的布线进行抑制。

在如此的构成的磁记录头中,虽然能够降低某种程度的混入的高频分量(串扰噪声),但是在记录电流发生过冲的情况和/或记录频率变高的情况下等,难以充分降低混入的高频分量。因此,微波振荡器的偏置电压会变动,振荡器的振荡工作变得不稳定,无法充分地得到辅助所需的高频磁场。

发明内容

本发明的实施方式提供防止高频噪声的混入并可以进行稳定的振荡的高频辅助式的磁头、具备其的头万向架组件及盘装置。

根据实施方式,盘装置的磁头具备在记录介质的记录层施加记录磁场的主磁极、在所述主磁极使磁场产生的记录线圈、配置于所述主磁极的附近的高频振荡器、用于通电于所述记录线圈的第1布线;用于通电于所述高频振荡器的第2布线和电连接于所述第2布线的低通滤波器。

附图说明

图1是表示第1实施方式涉及的硬盘驱动器(以下,HDD)的立体图。

图2是表示所述HDD的臂及头万向架组件的俯视图。

图3是对所述头万向架组件的前端部进行放大而示的立体图。

图4是表示所述头万向架组件的前端部及磁盘的剖视图。

图5是简要地表示所述头万向架组件的低通滤波器的图。

图6是对磁头的头部进行放大而示的剖视图。

图7A是简要地表示第1变形例涉及的低通滤波器的图。

图7B是简要地表示第2变形例涉及的低通滤波器的图。

图8是表示第1实施方式中的低通滤波器的频率特性的图。

图9是作为比较例表示不具有低通滤波器的磁头中的串扰噪声的频率分量(傅里叶解析结果)的图。

图10是简要地表示第2实施方式涉及的HDD的磁头的主视图。

图11是表示第2实施方式涉及的磁头的头部及低通滤波器的形成工序的立体图。

图12是表示所述头部的再现头及低通滤波器的形成工序的立体图。

图13是表示所述头部的再现头及低通滤波器的形成工序的立体图。

图14是表示所述头部的再现头及低通滤波器的形成工序的立体图。

图15是表示所述头部的再现头及低通滤波器的形成工序的立体图。

图16是表示所述头部的再现头及低通滤波器的形成工序的立体图。

图17是表示所述头部及低通滤波器的形成工序的立体图。

图18是表示所述头部及低通滤波器的形成工序的立体图。

图19是表示所述头部的加热器及低通滤波器的形成工序的立体图。

图20是表示所述头部及低通滤波器的形成工序的立体图。

图21是表示第2实施方式中的低通滤波器的频率特性的图。

图22是简要地表示第3实施方式涉及的HDD的磁头的主视图。

图23是表示第3实施方式中的低通滤波器的频率特性的图。

具体实施方式

以下一边参照附图,一边关于各种实施方式进行说明。

(第1实施方式)

图1将第1实施方式涉及的HDD的顶盖取下而表示内部结构。如示于图1地,HDD具备框体10。该框体10具备顶面开口的矩形箱状的基座11和未图示的矩形板状的顶盖。顶盖通过多个螺钉紧固于基座11,堵塞基座11的上端开口。由此,框体10内部保持为气密,仅通过呼吸过滤器26,可以与外部通气。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410427647.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top