[发明专利]阴离子表面活性剂及其制备方法

权利要求书

1.阴离子表面活性剂，其分子通式为：

R₁O(CH₂CH₂O)_m1(CH(CH₃)CH₂O)_n(CH₂CH₂O)_m2R₂Y；式(1)；

R₁为C₈～C₃₀的脂肪烃基、或由C₄～C₂₀直链或支链的饱和及不饱和烃基取代的芳基，m1＝1～30、m2＝1～50，n＝1～30，R₂为C₁～C₅的亚烷基或羟基取代亚烷基，Y为COOM或SO₃N，M和N独立选自氢、碱金属或者由式NR₃(R₄)(R₅)(R₆)所示基团中的至少一种；R₃、R₄、R₅和R₆为独立选自H、(CH₂)_pOH或(CH₂)_qCH₃中的一种，p＝2～4、q＝0～5中的任一整数。

2.根据权利要求1所述的阴离子表面活性剂，其特征在于所述R₁为C₁₂～C₂₄的烷基或由C₈～C₁₂烷基取代的苯基。

3.根据权利要求1所述的阴离子表面活性剂，其特征在于R₂为C₁～C₃的亚烷基或羟基取代亚丙基。

4.根据权利要求1所述的阴离子表面活性剂，其特征在于p＝2，q＝0～1。

5.根据权利要求1所述的阴离子表面活性剂，其特征在于m1＝2～10，m2＝1～20，n＝2～15。