[发明专利]一种凹形双电极积成芯片高压陶瓷电容器及制造工艺有效
申请号: | 201410428659.7 | 申请日: | 2014-08-28 |
公开(公告)号: | CN104167290A | 公开(公告)日: | 2014-11-26 |
发明(设计)人: | 史宝林;范垂旭;于金龙 | 申请(专利权)人: | 鞍山奇发电子陶瓷科技有限公司 |
主分类号: | H01G4/002 | 分类号: | H01G4/002;H01G4/12 |
代理公司: | 鞍山嘉讯科技专利事务所 21224 | 代理人: | 张群 |
地址: | 114014 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 凹形 电极 芯片 高压 陶瓷 电容器 制造 工艺 | ||
1.一种凹形双电极积成芯片高压陶瓷电容器,包括树脂包封层、电极层、瓷介质芯片及引线,其特征在于,整体形状为中心对称的凹碟形,即中心为圆盘形,外部为圆环形,外部圆环形的厚度大于中心圆盘形的厚度,圆环形芯片表面设有外电极,圆盘形芯片表面设有内电极,外电极与内电极为整体的铜电极,内电极与引线焊接,树脂包封层将内、外电极和瓷介质芯片包覆在里面。
2.权利要求1所述的凹形双电极积成芯片高压陶瓷电容器的制造工艺,其特征在于,包括双电极凹形铜电极芯片制作、焊接引线、涂覆、打印及测试;具体工艺步骤如下:
1)双电极凹形铜电极芯片制作:
a、压制成型:采用合金模具进行冲压成型,实现坯片双电极;
b、烧结:隧道窑高温烧结成瓷;
c、化学沉积:化学沉积法在芯片表面实现铜电极全覆盖;
d、无芯磨床磨边:采用无芯磨技术将边缘铜电极磨去,实现电极分离;
2)焊接引线:在芯片凹面内实现内电极与引线的焊接;
3)涂覆:焊接后的产品采用自动粉涂机进行环氧树脂包封料的涂装;
4)打印:打印相应的标识;
5)测试:根据GB/T 14472-1998和IEC 60384-14制定的工厂产品内控测试标准对产品的各项性能进行测试。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鞍山奇发电子陶瓷科技有限公司,未经鞍山奇发电子陶瓷科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410428659.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。