[发明专利]一种提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，具体地，涉及一种提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机。

背景技术

在平板显示的TFT（ThinFilmTransistor：薄膜晶体管）面板制造制程中，曝光机用于TFT器件图形的制作，而曝边机用于将曝光机曝光场以外的基板边缘光阻去除，因为这些残留光阻不去除会对后续设备的载台或腔体造成污染，同时，对于目前制程复杂的LTPS（Lowtemperaturepolysilicon：低温多晶硅）TFT制程，曝光层数较多，多余边缘光阻的累积残留也会造成后续产品的污染，影响品质，所以边缘曝光去除多余残留的光阻更显的尤为重要。

目前LTPS产线兴建，曝光机和曝边机的市场需求很大，两台设备的职能很单一，分工很明确，但两台设备的成本都很昂贵。

发明内容

本发明的目的在于提出一种提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机，在曝光一片玻璃基板的同时，能提供预对准台上等待曝光的下一片玻璃基板的边缘曝光。

本发明公开一种提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机，其特征在于：包括框架以及设置在所述框架上的曝光光源模块、掩膜台模块、镜筒及物镜模块、基板曝光载台模块、预对准台模块、机械手模块和边缘曝光模块；所述基板曝光载台模块和预对准台模块并排间隔放置；所述镜筒及物镜模块位于所述基板曝光载台上方；所述掩膜台模块位于所述镜筒及物镜模块的上方；所述曝光光源模块设置在所述掩膜台模块上方；所述边缘曝光模块位于所述预对准台模块的上方；所述边缘曝光模块包括边缘曝光光源、光学镜组及调整装置；在玻璃基板预对准的同时，边缘曝光模块对基板进行边缘曝光。

更进一步地，所述边缘曝光光源与所述曝光光源模块用同一光源。

更进一步地，还包括软件系统，用于实现预对准及玻璃基板的调整，边缘曝光的位置和尺寸的设定和输入，以及玻璃基板的场扫描曝光。

更进一步地，所述光学镜组包括振镜，通过振镜转动来改变光路的方向。

更进一步地，还包括分束光学镜组，将所述同一光源分束至所述曝光光源模块和边缘曝光光源，所述分束光学镜组包括反射镜和半透半反镜。

更进一步地，所述镜筒及物镜模块的末端安装控制挡板。

更进一步地，所述边缘曝光采用掩模或挡板来实现。

本发明提出的可提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机，在玻璃基板进入曝光载台前的预对准载台上就能实现边缘曝光，使一台设备在不增加载台，不增加体积的情况下，实现两种功能，能大大降低平板显示产线的设备成本并节约车间设备占用面积；同时，在前一片玻璃基板曝光的同时，后一片玻璃还同时实现了边缘曝光，大大节约了产线制程时间，能明显缩短制程，提高产率。

附图说明

关于本发明的优点与精神可以通过以下的发明详述及所附图式得到进一步的了解。

图1为本发明提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机结构示意图；

图2为本发明提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机俯视图；

图3为本发明边缘曝光系统示意图；

图4为本发明另一个实施例结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本发明的具体实施例。

如图1所示，本发明提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机包括由光源1、掩模2、物镜3、基板4以及工件台5组成的曝光系统，用于光刻曝光。预对准系统包括预对准载台6，预对准光源及传感器，基板位置校正装置9和机械手17，用于玻璃基板的预对准。还包括位于预对准载台6上方，由边缘曝光光源8，光学镜组和光路调整装置7和预对准载台6组成的边缘曝光系统，用于边缘曝光。在玻璃基板预对准的同时，边缘曝光系统进行边缘曝光。

如图2所示为本发明提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机的俯视图，预对准基板载台6在曝光工件台5的旁边，边缘曝光装置在预对准载台6的上方，边缘曝光装置包括光源8，以及光学镜组和光路调整装置7。

图3所示为本发明边缘曝光装置结构示意图，包括边缘曝光光源8，光学镜组和光路调整装置7以及预对准载台6。边缘曝光装置中的光源8可优选激光光源，也可选择其它包括汞灯的灯源。光路从灯源发出后，经过光学镜组10的折射或反射到达光路调整装置振镜11，振镜11可以通过自身的驱动和调整装置18来进行角度转动，这样，光源及光学系统在不动的情况下，光路可以随振镜的转动来改变方向，从而达到按照设定位置和尺寸来曝光边缘的效果。