[发明专利]一种防水防污光学透镜及其加工工艺

说明书

技术领域

本发明属于光学元件技术领域，具体涉及一种光学透镜，特别涉及一种防水防污光学透镜及加工工艺。

背景技术

透镜是用透明物质制成的表面为一部分球面的光学元件，透镜被应用到天文、军事、交通、医学等重要领域，在需要保持高精细的特殊环境，由于一些现场特殊的环境中，往往由于尘土、水汽、油污等因素容易产生污染透镜，造成观测画面不清晰，进而造成事故，另外在清洗尘土、水汽、油污等杂质时，容易使透镜划伤，划伤的透镜在应用中同样影响其观察效果，因此，开发一种结构简单、运行成本低、防水防污、功能全面的防水防污光学透镜具有十分重要的作用。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术的不足，而提供一种结构简单、运行成本低、防水防污、功能全面的防水防污光学透镜。

本发明的目的是这样实现的：一种防水防污光学透镜，它包括透镜基板,所述的透镜基板的外侧表面上设置有十一层镀膜层，所述的十一层镀膜层由内至外依次分别为：第一层为氟化镁膜层A，第二层为钛酸镧膜层A，第三层为氟化镁膜层B，第四层为钛酸镧膜层B，第五层为氟化镁膜层C，第六层为钛酸镧膜层C，第七层为氟化镁膜层D，第八层为钛酸镧膜层D，第九层为氟化镁膜层E，第十层为二氧化硅膜层，第十一层为全氟辛基磺酸钠膜层。 

所述的氟化镁膜层A、氟化镁膜层B、氟化镁膜层C、氟化镁膜层D和氟化镁膜层E为同一种化合物层，其中氟化镁膜层A的厚度为40nm—70nm，氟化镁膜层B的厚度为40nm—70nm，氟化镁膜层C的厚度为70nm—100nm、氟化镁膜层D的厚度为40nm—70nm和氟化镁膜层E的厚度为70nm—100nm。

所述的钛酸镧膜层A、钛酸镧膜层B、钛酸镧膜层C和钛酸镧膜层D为同一种化合物层，其中钛酸镧膜层A的厚度为30nm-50nm，钛酸镧膜层B的厚度为150nm-450nm，钛酸镧膜层C的厚度为30nm-50nm，钛酸镧膜层D的厚度为150nm-450nm。

所述的二氧化硅膜层的厚度为10nm-30nm。

所述的全氟辛基磺酸钠膜层的厚度为5nm-20nm。

所述的加工工艺包括如下步骤：

步骤一：选材：将原材料镜片经过铣磨、精磨后得到透镜基板；

步骤二：第一次镀膜：将步骤一得到的透镜基板在真空度为3.0*10^-3Pa、温度为300℃的电子枪坩埚内镀氟化镁膜层A，控制氟化镁膜层A的厚度为40nm—70nm；

步骤三：第二次镀膜：将步骤二得到的镀膜透镜基板放置在真空度为3.0*10^-3Pa、温度为300℃的电子枪坩埚内在氟化镁膜层A的表面上镀钛酸镧膜层A，控制钛酸镧膜层A的厚度为30nm-50nm；

步骤四：第三次镀膜：将步骤三得到的镀膜透镜基板放置在真空度为3.0*10^-3Pa、温度为300℃的电子枪坩埚内在钛酸镧膜层A的表面上镀氟化镁膜层B，控制氟化镁膜层B的厚度为40nm—70nm；

步骤五：第四次镀膜：将步骤四得到的镀膜透镜基板放置在真空度为3.0*10^-3Pa、温度为300℃的电子枪坩埚内在氟化镁膜层B的表面上镀钛酸镧膜层B，控制钛酸镧膜层B的厚度为150nm-450nm；

步骤六：第五次镀膜：将步骤五得到的镀膜透镜基板放置在真空度为3.0*10^-3Pa、温度为300℃的电子枪坩埚内在钛酸镧膜层B的表面上镀氟化镁膜层C，控制氟化镁膜层C的厚度为70nm—100nm；

步骤七：第六次镀膜：将步骤六得到的镀膜透镜基板放置在真空度为3.0*10^-3Pa、温度为300℃的电子枪坩埚内在氟化镁膜层C的表面上镀钛酸镧膜层C，控制钛酸镧膜层C的厚度为30nm-50nm；

步骤八：第七次镀膜：将步骤七得到的镀膜透镜基板放置在真空度为3.0*10^-3Pa、温度为300℃的电子枪坩埚内在钛酸镧膜层C的表面上镀氟化镁膜层D，控制氟化镁膜层D的厚度为40nm—70nm；

步骤九：第八次镀膜：将步骤八得到的镀膜透镜基板放置在真空度为3.0*10^-3Pa、温度为300℃的电子枪坩埚内在氟化镁膜层D的表面上镀钛酸镧膜层D，控制钛酸镧膜层D的厚度为150nm-450nm；