[发明专利]显示面板及制造该显示面板的方法在审
申请号: | 201410434066.1 | 申请日: | 2014-08-29 |
公开(公告)号: | CN104377207A | 公开(公告)日: | 2015-02-25 |
发明(设计)人: | 王明宗;柳智忠;齐国杰;刘建欣 | 申请(专利权)人: | 深超光电(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77;G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飞亚 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 制造 方法 | ||
1.一种显示面板包括基板、薄膜晶体管、公共电极、公共电极线、连接电极及像素电极,所述薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极及连接所述源极与漏极的沟道层,所述栅极、公共电极及公共电极线均直接设置在基板上且相互断开并不直接相连,所述像素电极与漏极相连并与所述公共电极相对,所述公共电极与公共电极线通过连接电极相互连接。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于:所述公共电极为透明导电膜。
3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于:所述公共电极与所述像素电极相对设置,所述像素电极上开设有多条狭缝以与相对的公共电极形成平行电场。
4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于:所述显示面板划分为用于显示图像的显示区域及位于显示区域外侧用于走线的非显示区域,所述公共电极仅设置在显示区域内。
5.如权利要求4所述的显示面板,其特征在于:进一步包括相互平行的扫描线及相互平行的数据线,所述扫描线与数据线相互垂直绝缘相交以在显示面板的显示区域内定义多个像素单元,所述薄膜晶体管设置在每个像素单元内的扫描线与数据线相交处,所述源极与对应的扫描线相连接,所述漏极与对应的数据线相连接。
6.如权利要求5所述的显示面板,其特征在于:每个像素单元内设置有至少一与数据线相互平行的公共电极线。
7.一种显示面板制造方法,所述显示面板划分为用于显示图像的显示区域及位于显示区域外侧用于走线的非显示区域,该方法包括如下步骤:
提供一基板;
在所述基板上依次形成一金属层及覆盖在金属层上的光阻层;
利用一金属层光罩对所述光阻层进行曝光及显影以在所述金属层上形成与一薄膜晶体管的栅极及一公共电极线对应的光阻图案;
对形成有光阻图案的基板进行蚀刻,以将所述金属层蚀刻成薄膜晶体管的栅极及公共电极线;
在蚀刻后的基板上镀上透明导电薄膜作为一公共电极;
在所述基板上形成一栅极绝缘层以覆盖所述栅极、公共电极及公共电极线;
在所述栅极绝缘层上与所述栅极对应的位置处形成薄膜晶体管的沟道层;
在沟道层上形成薄膜晶体管的源极及漏极;
在所述栅极绝缘层上形成平坦层;
在所述平坦层上形成与漏极相连接的所述像素电极及连接所述公共电极与公共电极线的连接电极。
8.如权利要求7所述的显示面板制造方法,其特征在于:在形成公共电极之后及形成栅极绝缘层之前还包括如下步骤:
在所述基板上形成覆盖所述栅极、公共电极及公共电极线的光阻层;
在所述基板与栅极、公共电极及公共电极线相对的背侧采用紫外线光罩对位于非显示区域上的光阻进行曝光显影以将非显示区域上的光阻层去除;
对所述基板进行蚀刻以将形成在非显示区域上的透明导电膜去除。
9.如权利要求8所述的显示面板制造方法,其特征在于:在对所述金属层进行蚀刻的过程中控制蚀刻的程度以使得蚀刻后的栅极及公共电极线的外边缘相对于上方的光阻图案外边缘向内凹进一预定距离。
10.如权利要求7所述的显示面板制造方法,其特征在于:所述公共电极及像素电极的材料为氧化铟锡。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的