[发明专利]一种显示用基板及显示装置有效
申请号: | 201410438262.6 | 申请日: | 2014-08-29 |
公开(公告)号: | CN104216163B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 尤杨;谢建云;王凯旋;李伟;袁洪亮 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 用基板 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示用基板及显示装置。
背景技术
目前液晶显示装置包括对盒的彩膜基板和阵列基板,其中,一般在彩膜基板上设置隔垫物以支撑两基板,形成用于填充液晶的空间。
如图1所示,彩膜基板一般包括:透明基板1、黑矩阵2、彩色膜层3、保护膜层4、隔垫物5以及覆盖隔垫物5和保护膜层4的PI膜6。其中,如图2所示,黑矩阵2横纵交叉,形成多个显示单元,彩色膜层3位于显示单元位置处。PI膜是通过在基板表面形成PI(Polyimide,聚酰亚胺)薄膜,再对PI薄膜进行摩擦,在PI薄膜上形成具有一定方向的摩擦沟槽,以使得液晶沿沟槽方向有序排列,即使得液晶的初始方向一致。如图2所示,由于隔垫物在阵列基板和彩膜基板之间形成液晶的填充空间,因此隔垫物较高,在沿摩擦方向摩擦时,隔垫物的“阴影”(图2虚线所示)处形成不了摩擦沟槽。而当摩擦方向与黑矩阵的设置方向不平行时,如黑矩阵沿第一方向101和第二方向102横纵交叉,摩擦方向103与第一方向101和第二方向102均不平行,则隔垫物的“阴影”容易形成在对应显示单元位置处,显示单元在对应没有摩擦沟槽的位置处,液晶初始方向不一致,偏转紊乱,显示会有漏光。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示用基板及显示装置,解决了现有的显示单元由于隔垫物影响,在对应没有形成摩擦沟槽的位置处液晶偏转紊乱,漏光的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
第一方面,本发明实施例提供了一种显示用基板,包括衬底、形成在所述衬底上的黑矩阵、隔垫物以及摩擦膜层,所述黑矩阵包括多条沿第一方向排列的第一黑矩阵和多条沿第二方向排列的第二黑矩阵,所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵交叉形成多个显示单元,沿第二方向相邻的两条第二黑矩阵之间的第一黑矩阵的面积小于阈值;其中,所述阈值为沿所述第二方向相邻的两条第二黑矩阵的间距与所述第一黑矩阵在所述相邻的两条第二黑矩阵之间最大宽度的乘积;其中,第一黑矩阵的宽度为第一黑矩阵沿与第一方向平行方向的宽度,第二黑矩阵的宽度为第二黑矩阵沿与第二方向平行方向的宽度;
所述隔垫物位于对应黑矩阵的位置处,且所述隔垫物沿摩擦方向的阴影投射在所述第一黑矩阵上。
第二方面,本发明实施例提供了一种显示装置,包括本发明实施例提供的任一所述的显示用基板。
本发明的实施例提供一种显示用基板及显示装置,所述显示用基板上隔垫物沿摩擦方向的阴影投射在第一黑矩阵上;且沿第二方向相邻的两条第二黑矩阵之间的第一黑矩阵的面积小于沿第二方向相邻的两条第二黑矩阵的间距与第一黑矩阵在相邻的两条第二黑矩阵之间最大宽度的乘积,即在保证隔垫物投影在第一黑矩阵的基础上,使得黑矩阵的面积较小,从而使得像素的开口率较大。而隔垫物的阴影投射在黑矩阵上,则在形成摩擦沟槽的过程中,显示单元处均可以形成方向一致的摩擦沟槽,保证液晶初始方向的一致而不会漏光。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有的彩膜基板截面示意图;
图2为现有的彩膜基板俯视示意图;
图3为本发明实施例提供的一种显示用基板俯视示意图;
图4为本发明实施例提供的另一种显示用基板俯视示意图。
附图标记:
1-透明基板;2-黑矩阵;21-第一黑矩阵;22-第二黑矩阵;3-彩色膜层;4-保护膜层;5-隔垫物;6-PI膜。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410438262.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:心电电极片
- 下一篇:一种震动脱水式清洁工具