[发明专利]成像构件以及包含所述成像构件的油墨基数字印刷系统

权利要求书

1.一种用于油墨基数字印刷的成像构件，所述成像构件包括：

成像构件表面，所述成像构件表面包括亲水性成像表面。

2.根据权利要求1所述的成像构件，所述成像构件表面还包括在聚合物的表面处具有亲水性基团的经交联的硅氧烷聚合物，所述亲水性基团使得所述经交联的硅氧烷的表面具有亲水性。

3.根据权利要求1所述的成像构件，所述成像构件表面还包括经等离子体氧化的交联PDMS。

4.根据权利要求2所述的成像构件，所述成像构件表面还包括具有共价附接的极性或带电分子的交联PDMS。

5.根据权利要求1所述的成像构件，所述成像构件表面还包括氟硅氧烷。

6.根据权利要求1所述的成像构件，所述成像构件表面还包括含氟弹性体共聚物，其中所述含氟弹性体共聚物的两个或更多个单体选自六氟丙烯(HFP)、四氟乙烯(TFE)、偏二氟乙烯(VDF)、全氟甲基乙烯基醚(PMVE)和乙烯(ET)，其中所述含氟弹性体共聚物的氟含量在约60wt％至约70wt％的范围内。

7.一种油墨基数字印刷系统，其包括：

成像构件，所述成像构件具有亲水性成像构件表面；

润湿流体计量系统，所述润湿流体计量系统用于将润湿流体的层施用至所述成像构件表面；

激光成像系统，所述激光成像系统用于润湿流体图案化；和

油墨系统，所述油墨系统用于将油墨施用至具有设置于其上的图案化润湿流体的成像构件表面。

8.根据权利要求6所述的系统，所述成像构件表面材料还包括具有选自二氧化硅、硅烷醇基团、羧酸和/或羟基的暴露基团的经等离子体氧化的交联PDMS。

9.根据权利要求6所述的系统，所述成像构件表面材料还包括经化学改性的亲水性氟硅氧烷。

10.根据权利要求6所述的系统，所述成像构件表面材料还包括经化学改性的亲水性含氟弹性体。