[发明专利]气室的制造方法及气室、磁测定装置的制造方法及磁测定装置有效

专利信息
申请号: 201410439248.8 申请日: 2012-02-13
公开(公告)号: CN104188626B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 长坂公夫;菊原和通 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 刘影娜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 制造 方法 测定 装置
【权利要求书】:

1.一种气室的制造方法,其特征在于,具有:

将封装件和盖罩接合而形成主室的接合工序;

在所述主室的内壁形成涂层的涂敷工序;

向所述主室内填充碱金属气体的填充工序。

2.如权利要求1所述的气室的制造方法,其特征在于,

在所述接合工序中,还形成狭窄孔以及经由所述狭窄孔与所述主室连通的安瓿容纳室。

3.如权利要求2所述的气室的制造方法,其特征在于,

在所述接合工序和所述涂敷工序之间,将在内部封入有碱金属固体的安瓿配置于安瓿容纳室。

4.如权利要求3所述的气室的制造方法,其特征在于,

所述填充工序包括破坏所述安瓿的安瓿破坏工序。

5.如权利要求4所述的气室的制造方法,其特征在于,

所述填充工序在安瓿破坏工序之后包括扩散碱金属气体的扩散工序。

6.一种磁测定装置的制造方法,其特征在于,具有:

将封装件和盖罩接合而形成主室的接合工序;

在所述主室的内壁形成涂层的涂敷工序;

向所述主室内填充碱金属气体的填充工序。

7.一种气室,其特征在于,具有:

主室;

狭窄孔;

经由所述狭窄孔与所述主室连通的安瓿容纳室;

被气密封闭于所述主室内的碱金属气体。

8.如权利要求7所述的气室,其特征在于,

在所述主室的内壁形成有涂层。

9.一种磁测定装置,其特征在于,

具有权利要求7或8所述的气室。

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