[发明专利]腔体气流方向可变结构有效
| 申请号： | 201410440010.7 | 申请日： | 2014-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN104213102A | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 吴凤丽;郑旭东;姜崴 | 申请（专利权）人： | 沈阳拓荆科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 甄玉荃;霍光旭 |
| 地址： | 110179 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气流 方向 可变 结构 | ||
【权利要求书】：
1.腔体气流方向可变结构，包括腔体(1)，腔体(1)的侧面设有气室，其特征在于：上述腔体(1)内的承载面A(11)及承载面B(12)沿腔体轴向上下布置，承载面A(11)上放置大径陶瓷环(2)，小径陶瓷环(3)放置于腔体(1)内的承载面B(12)上，上述气室设有抽气芯(4)。
2.如权利要求1所述的腔体气流方向可变结构，其特征在于：上述抽气芯(4)由外部提供位移动力，可沿承载面A(11)及承载面B(12)布置方向移动。
3.如权利要求2所述的腔体气流方向可变结构，其特征在于：所述抽气芯(4)穿过波纹管(6)与腔体(1)密封配合。
4.如权利要求3所述的腔体气流方向可变结构，其特征在于：所述波纹管(6)与腔体(1)通过螺栓连接，由O型圈(5)实现密封。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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