[发明专利]一种光罩图形缺陷检测系统及方法

权利要求书

1.一种光罩图形缺陷检测系统，其特征在于，所述系统包括：

存储模块，储存有光罩设计图形数据；

预选模块，根据光罩图形设计规则和工艺缺陷在样品中选取部分区域作为待测区域；

筛选模块，根据产能情况来设定一筛选规则以选取部分待测区域；

处理模块，根据所述预选模块中的待测区域和筛选模块的筛选规则选取部分待测区域作为检测区域；

检测模块，对所述检测区域进行缺陷检测；

执行模块，所述执行模块用于执行所述检测模块的检测操作。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，根据光罩图形设计规则和工艺缺陷来设定一阈值，将超过该阈值的区域设定为待测区域。

3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，根据样品在进行光刻工艺中曝光区域与非曝光区域的比例，和/或曝光区域的关键尺寸来设定所述阈值。

4.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述检测模块为一扫描电子显微镜，利用所述扫描电子显微镜对所述检测区域做做缺陷检测。

5.如权利要求4所述的系统，其特征在于，所述筛选模块根据所述扫描电子显微镜的最大检测能力来对待测区域进行筛选以作为所述检测区域。

6.一种光罩图形缺陷检测方法，其特征在于，所述方法包括：

建立一光罩图形数据库；

根据光罩图形设计规则和对应的工艺缺陷来选定样品的待测区域；

根据产能情况来设定一筛选规则，以选取部分所述待测区域作为检测区域；

根据待测区域和所述筛选规则对选取的检测区域进行缺陷检测。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，根据光罩图形设计规则和工艺缺陷来设定一阈值，将超过该阈值的区域设定为待测区域。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，根据样品在进行光刻工艺中曝光区域与非曝光区域的比例，和/或曝光区域的关键尺寸来设定所述阈值。

9.如权利要求6所述的方法，其特征在于，利用一扫描电子显微镜对所述检测区域做缺陷检测。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，根据所述扫描电子显微镜的最大检测能力来对待测区域进行筛选。